特許
J-GLOBAL ID：201603008543860222
形状シミュレーション装置、形状シミュレーション方法、および形状シミュレーションプログラム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
勝沼 宏仁
, 佐藤 泰和
, 川崎 康
, 関根 毅
, 赤岡 明
, 山ノ井 傑
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-123500
公開番号（公開出願番号）：特開2013-250662
特許番号：特許第5918630号
出願日： 2012年05月30日
公開日（公表日）： 2013年12月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 物質の表面を複数の計算要素に分割する分割部と、
各計算要素から複数の方向に直線を伸ばし、各直線が前記物質の表面にぶつかるか否かと、各直線がどの計算要素にぶつかるかとを判定する判定部と、
前記判定の結果に基づいて、各計算要素に直接的に到達する反応種のフラックスである直接フラックスと、前記計算要素同士の位置関係を示す形態係数とを計算する計算部とを備え、
前記計算部は、前記直接フラックスと前記形態係数とを使用して、各計算要素に直接的または間接的に到達する反応種のフラックスである総フラックスと、前記物質の局所的な表面成長速度の少なくともいずれかを計算し、
前記計算部は、前記直接フラックスと前記形態係数を、前記直線の方向を示す極角θと偏角φについてのループ計算により計算し、
前記計算部は、前記ループ計算を前記極角θの大きい方向から前記極角θの小さい方向へと順に行い、前記極角θがθ0となる方向において任意の前記偏角φで各直線が前記物質の表面にぶつからないと判定された場合には、前記極角θがθ0よりも小さい方向についての前記ループ計算を省略する、
形状シミュレーション装置。
IPC (2件)：
G06F 17/50 ( 200 6.01)
, G06F 19/00 ( 201 1.01)
G06F 17/50 612 A
, G06F 17/50 680 C
, G06F 19/00 110
