特許
J-GLOBAL ID：201603009474498741
処理ユニットを含む基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小倉 正明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-548650
特許番号：特許第5879447号
出願日： 2012年11月23日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板に対する処理が行われる基板処理装置において,
上部が開放され,一側に前記基板が出入する通路が形成された下部チャンバと,
前記下部チャンバの開放された上部を閉鎖し,前記処理が行われる処理空間を提供する外部反応チューブと,
一つ以上の前記基板が上下方向に積載され,前記基板が積載される積載位置及び前記基板に対する前記処理が行われる処理位置に移動可能な基板ホルダと,
前記外部反応チューブの内部に設置され,前記処理位置に置かれた前記基板ホルダの周りに配置されて前記基板に対する反応領域を区画し,互いに異なる高さで周方向に位相差を以て配置された第1及び第2貫通孔が内壁に形成される内部反応チューブと,
前記外部反応チューブの内部に配置され,前記反応領域内に反応ガスを供給し,上下方向に沿って互いに異なる位相差を有する前記反応ガスの流動を前記反応領域内に形成するガス供給ユニットと,
前記外部反応チューブの外側に設置されて前記反応ガスを活性化して前記基板に対する処理を行う処理ユニットと,を含み,
前記ガス供給ユニットは,
前記第1貫通孔をそれぞれ貫通し,前記内部反応チューブの内部に位置し,前記反応ガスを吐出する,それぞれが供給口を備えた複数の供給ノズルと,
前記供給ノズルにそれぞれ連結されて前記内部反応チューブの外部に位置し,前記供給ノズルにそれぞれ前記反応ガスを供給する複数の供給管と,
前記第2貫通孔をそれぞれ貫通し,前記内部反応チューブの内部に位置し,前記処理空間内の未反応ガス及び反応副産物を吸入する,それぞれが排気口を備えた複数の排気ノズルと,
前記排気ノズルにそれぞれ連結されて前記内部反応チューブの外部に位置し,前記排気ノズルを介してそれぞれ吸入された前記未反応ガス及び前記反応副産物が通過する複数の排気管と,を含み,
前記供給口は前記外部反応チューブの内壁に沿って周方向に位相差を有するように互いに異なる高さにそれぞれ配置されており,
前記排気口は前記外部反応チューブの内壁に沿って周方向に位相差を有するように互いに異なる高さにそれぞれ配置されており,
前記供給口の中心が同一の高さにある前記排気口の中心と対称に配置され,反応ガスの流れが上下方向で位相差を有することを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/205 ( 200 6.01)
, H01L 21/3065 ( 200 6.01)
, C23C 16/24 ( 200 6.01)
, C23C 16/455 ( 200 6.01)
H01L 21/205
, H01L 21/302 102
, H01L 21/302 101 C
, C23C 16/24
, C23C 16/455
出願人引用 (17件)
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審査官引用 (21件)
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