特許
J-GLOBAL ID:201603009487418070

有機EL素子の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 杉村 憲司 ,  山口 雄輔
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-039202
公開番号(公開出願番号):特開2013-175600
特許番号:特許第5987149号
出願日: 2012年02月24日
公開日(公表日): 2013年09月05日
請求項(抜粋):
【請求項1】 基板上に、少なくとも陽極、発光層、および陰極を有する有機EL素子の製造方法であって、 基板上に陽極及び陰極のうちいずれか一方を形成する工程と、 前記陽極又は陰極上に発光層を形成する工程と、 前記発光層上に陽極及び陰極のうちいずれか他方を形成する工程と、を含み、 前記発光層は、有機溶媒に溶解させた石炭ピッチが成膜されてなることを特徴とする、有機EL素子の製造方法。
IPC (3件):
H01L 51/50 ( 200 6.01) ,  H05B 33/10 ( 200 6.01) ,  C09K 11/06 ( 200 6.01)
FI (3件):
H05B 33/14 B ,  H05B 33/10 ,  C09K 11/06 603
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (8件)
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