特許
J-GLOBAL ID：201603010132792824
レーザ加工方法、ガラス加工部品の製造方法及びレーザ加工装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (3件)：
岡部 讓
, 吉澤 弘司
, 川崎 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-175630
公開番号（公開出願番号）：特開2016-049542
出願日： 2014年08月29日
公開日（公表日）： 2016年04月11日
要約：
【課題】微細且つ良好な孔を形成し得るレーザ加工方法、ガラス加工部品の製造方法及びレーザ加工装置を提供する。【解決手段】ガラス基板46の一方の主面から他方の主面に向かう方向に進行する超短パルスレーザ光Aの集光点56をガラス基板の他方の主面側から一方の主面側に移動させながら超短パルスレーザ光を照射することにより改質部50を形成する工程と、改質部をエッチングすることにより孔を開ける工程とを有し、超短パルスレーザ光の1パルスの単位面積当たりのエネルギーをE、集光点の移動速度をv、繰り返し周波数をfとすると、0.05×106[J/m2]≦E≦0.5×106[J/m2]であり、0.22×10-12[m・s]≦(v/f2)≦10×10-12[m・s]であり、0.018×1018[J/(m3・s)]≦(E・f2/v)≦0.81×1018[J/(m3・s)]である。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
ガラス基板の一方の主面から他方の主面に向かう方向に進行する超短パルスレーザ光の集光点を、前記ガラス基板の前記他方の主面側から前記一方の主面側に移動させながら、前記ガラス基板に前記超短パルスレーザ光を照射することにより、前記ガラス基板に改質部を形成する工程と、
前記改質部をエッチングすることにより、前記ガラス基板に孔を開ける工程とを有し、
前記超短パルスレーザ光の1パルスの単位面積当たりのエネルギーをE、前記超短パルスレーザ光の前記集光点の移動速度をv、前記超短パルスレーザ光の繰り返し周波数をfとすると、
0.05×106[J/m2]≦E≦0.5×106[J/m2]であり、
0.22×10-12[m・s]≦(v/f2)≦10×10-12[m・s]であり、
0.018×1018[J/(m3・s)]≦(E・f2/v)≦0.81×1018[J/(m3・s)]である、レーザ加工方法。
IPC (4件)：
B23K 26/53
, B23K 26/382
, B23K 26/00
, C03B 33/02
B23K26/53
, B23K26/382
, B23K26/00 N
, C03B33/02
4E168AE01
, 4E168AE05
, 4E168CA06
, 4E168CB07
, 4E168CB15
, 4E168DA02
, 4E168DA32
, 4E168DA34
, 4E168DA40
, 4E168DA46
, 4E168DA47
, 4E168DA60
, 4E168EA04
, 4E168GA04
, 4E168JA14
, 4E168KA04
, 4G015FA09
