特許
J-GLOBAL ID：201603010662717947
モデルベースのプロセスシミュレーション方法
発明者：
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-238241
公開番号（公開出願番号）：特開2016-066091
出願日： 2015年12月07日
公開日（公表日）： 2016年04月28日
要約：
【課題】差分モデルを用いたリソグラフィシミュレーションを提供する。【解決手段】差分モデルは、調整可能なおよび非調整可能な設定に関連する2つのスキャナの結像特性における差を記述する。2つのスキャナのうちの一方のスキャナのモデルは、もう一方のスキャナのモデルと差分モデルとを用いて導出される。同様に、感度モデルは、様々なスキャナ設定に関連する1つのスキャナの結像特性における差を記述する。さらに、プリント結果との比較によって差分モデルと感度モデルを較正する。【選択図】図8
請求項（抜粋）：
リソグラフィプロセスシミュレーション方法であって、
リソグラフィプロセスパラメータにおける差に起因する結像結果における差を記述する差分モデルを維持することと、
前記差分モデルを用いて、シミュレートされたウェーハ輪郭を生成することと、
を含む、方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (18件)：
2H195BA01
, 2H195BB27
, 2H195BB36
, 2H197AA05
, 2H197AA09
, 2H197AA10
, 2H197AA12
, 2H197BA02
, 2H197BA09
, 2H197CA05
, 2H197CA07
, 2H197CA08
, 2H197CA10
, 2H197CC05
, 2H197DA02
, 2H197GA01
, 2H197HA03
, 2H197JA22
