特許
J-GLOBAL ID：201603010781612886
表面処理装置、表面処理方法、基板支持機構およびプログラム
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
龍華国際特許業務法人
, 林 茂則
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-083315
公開番号（公開出願番号）：特開2013-145860
特許番号：特許第6017817号
出願日： 2012年03月30日
公開日（公表日）： 2013年07月25日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板を支持する基板ホルダと、
前記基板の処理面に平行な面と直交する第1直線を回転軸として回転され、前記基板ホルダを支持するサセプタと、
前記サセプタを回転させるサセプタ回転機構と、
を有する前記基板の表面処理装置であって、
前記基板ホルダが、前記サセプタの回転に伴って前記第1直線の周りを回転し、かつ、前記サセプタに固定されたサセプタ座標において不動な直線であって前記第1直線と平行な第2直線を回転軸として回転可能なものであり、さらに、前記第2直線上ではない位置に重心を有するものであり、
回転している前記サセプタの単位時間当たり回転数を一定に維持することで前記サセプタ座標から見た前記基板ホルダの回転を停止し、前記サセプタの単位時間当たり回転数を変えることで、前記基板ホルダを前記サセプタ座標から見て回転させる
表面処理装置。
IPC (6件)：
H01L 21/205 ( 200 6.01)
, H01L 21/31 ( 200 6.01)
, H01L 21/3065 ( 200 6.01)
, C23C 14/50 ( 200 6.01)
, C23C 16/458 ( 200 6.01)
, H01L 21/304 ( 200 6.01)
H01L 21/205
, H01L 21/31 B
, H01L 21/302 101 G
, C23C 14/50 H
, C23C 16/458
, H01L 21/304 645 C
, H01L 21/304 651 E
