特許
J-GLOBAL ID:200903031836215123
基板回転機構およびそれを備えた成膜装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
原 謙三
, 木島 隆一
, 金子 一郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-318128
公開番号(公開出願番号):特開2006-128561
出願日: 2004年11月01日
公開日(公表日): 2006年05月18日
要約:
【課題】 長寿命化とともに、低コスト化を図った基板回転機構およびその基板回転機構を備えた成膜装置を提供する。【解決手段】 自公転機構Aは、基板Wを載置する基板保持部9を有し、基板Wを回転自在に保持する第1の処理基板保持部材1と、複数の第1の処理基板保持部材1を、回転自在に保持する第2の処理基板保持部材2と、第2の処理基板保持部材2を保持するベースプレート7とを備え、第1の処理基板保持部材1と第2の処理基板保持部材2との間、および、第2の処理基板保持部材2とベースプレート7との間に、第1の処理基板保持部材1または第2の処理基板保持部材2を回転させるための複数の球6を内部に保持した回転部材16A・16Bを備え、第1の処理基板保持部材1および第2の処理基板保持部材2に、回転部材16A・16Bを収容する保持溝17a・17bが形成されている【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基板を載置する載置部を有し、基板を回転自在に保持する第1の基板保持部材と、
複数の第1の基板保持部材を、回転自在に保持する第2の基板保持部材と、
第2の基板保持部材を保持する支持体とを備えた基板回転機構において、
第1の基板保持部材と第2の基板保持部材との間、および、第2の基板保持部材と支持体との間に、第1の基板保持部材または第2の基板保持部材を回転させるための複数の環状部材を内部に保持した回転部材を備え、
第1の基板保持部材および第2の基板保持部材に、上記回転部材を収容する保持溝が形成されていることを特徴とする基板回転機構。
IPC (3件):
H01L 21/683
, C23C 16/44
, H01L 21/205
FI (4件):
H01L21/68 N
, C23C16/44 G
, C23C16/44 J
, H01L21/205
Fターム (20件):
4K030AA11
, 4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030DA06
, 4K030GA09
, 5F031CA02
, 5F031HA02
, 5F031HA07
, 5F031HA42
, 5F031HA59
, 5F031LA07
, 5F031LA09
, 5F031LA14
, 5F031MA28
, 5F031PA07
, 5F031PA26
, 5F031PA30
, 5F045AA04
, 5F045DP15
, 5F045DP27
引用特許:
出願人引用 (5件)
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薄膜気相成長装置のサセプタ回転支持構造
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-190724
出願人:日新電機株式会社
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特開平4-313220(1992年11月5日公開)
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有機金属気相成長装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-072721
出願人:松下電器産業株式会社
-
実開平2-138422(1990年11月19日公開)
-
洗浄剤組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-374680
出願人:株式会社資生堂
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審査官引用 (3件)
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