特許
J-GLOBAL ID：201603010880484865

基板処理装置および基板処理方法

発明者：
三浦 淳靖

三浦 淳靖 について

, 
高橋 光和

高橋 光和 について


出願人/特許権者：
株式会社SCREENホールディングス

株式会社SCREENホールディングス について


代理人 (3件)： 松阪 正弘 ,  田中 勉 ,  井田 正道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-198209
公開番号（公開出願番号）：特開2016-072344
出願日： 2014年09月29日
公開日（公表日）： 2016年05月09日
要約：
【課題】基板上における液途切れおよび液跳ねを抑制する。【解決手段】基板処理装置1では、制御部71により薬液供給部61および洗浄液供給部62が制御されることにより、基板9に対する薬液処理が洗浄処理へと切り替えられる際に、薬液吐出口614からの薬液の吐出が停止されるよりも前に、洗浄液吐出口624からの洗浄液の吐出が開始される。また、基板9に対する薬液処理が洗浄処理へと切り替えられる間、薬液吐出口614から吐出される薬液と洗浄液吐出口624から吐出される洗浄液との合計流量が一定に維持される。これにより、基板9上における液途切れおよび液跳ねを抑制することができる。その結果、基板9上におけるパーティクルの発生、および、基板処理装置1の内部に処理液が付着することを抑制することができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板を処理する基板処理装置であって、 水平状態の基板を保持する基板保持部と、 前記基板の上面上の吐出位置に向けて薬液を吐出する薬液吐出口を有し、前記基板に前記薬液を供給して薬液処理を行う薬液供給部と、 前記基板の前記上面上の前記吐出位置に向けて洗浄液を吐出する洗浄液吐出口を有し、前記基板に前記洗浄液を供給して洗浄処理を行う洗浄液供給部と、 前記薬液供給部および前記洗浄液供給部を制御することにより、前記基板に対する前記薬液処理を前記洗浄処理へと切り替える際に、前記薬液吐出口からの前記薬液の吐出が停止するよりも前に前記洗浄液吐出口からの前記洗浄液の吐出を開始し、前記基板に対する前記薬液処理が前記洗浄処理へと切り替えられる間、前記薬液吐出口から吐出される前記薬液と前記洗浄液吐出口から吐出される前記洗浄液との合計流量を一定以下に維持する制御部と、 を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (1件)：
H01L 21/304
FI (2件)：
H01L21/304 643A ,  H01L21/304 651B
Fターム (13件)：
5F157AB02 ,  5F157AB33 ,  5F157AB90 ,  5F157AC26 ,  5F157BB11 ,  5F157CB01 ,  5F157CB13 ,  5F157CE04 ,  5F157CE08 ,  5F157CE25 ,  5F157CE32 ,  5F157CE42 ,  5F157DB51
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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