特許
J-GLOBAL ID：201603011042108513
電子ビーム蒸着装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
溝上 哲也
, 岩原 義則
, 山本 進
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-037670
公開番号（公開出願番号）：特開2013-173964
特許番号：特許第6017799号
出願日： 2012年02月23日
公開日（公表日）： 2013年09月05日
請求項（抜粋）：
【請求項1】水平に配置された坩堝と、当該坩堝の下方に配置した電子銃から照射される加速した電子を坩堝内に導く偏向用磁石と、当該偏向用磁石に導かれて坩堝に入射した電子ビームにより発生する反射電子の軌道を含む坩堝近傍の電子の軌道を制御するポールピースとを有し、坩堝内に導かれた電子により坩堝内に装入した材料を加熱して蒸発させ、坩堝の側方に下端が位置するように鉛直方向に保持した基板の表面に付着させて薄膜を形成する電子ビーム蒸着装置において、
前記電子銃と、前記偏向用磁石と、前記ポールピースを前記基板方向に傾斜配置して、前記基板側の上方から坩堝内の材料に斜めに電子を照射すべく構成すると共に、
前記坩堝近傍で前記基板と離れた側に、基板方向に傾斜状に延出する反射板を設けて蒸発した材料が基板方向に向くように構成したことを特徴とする電子ビーム蒸着装置。
IPC (2件)：
C23C 14/30 ( 200 6.01)
, C23C 14/24 ( 200 6.01)
C23C 14/30 B
, C23C 14/24 C
, C23C 14/24 J
