特許
J-GLOBAL ID：201603011919457808

荷電粒子ビーム描画装置

発明者：
室伏 達也

室伏 達也 について


出願人/特許権者：
株式会社ニューフレアテクノロジー

株式会社ニューフレアテクノロジー について


代理人 (6件)： 勝沼 宏仁 ,  関根 毅 ,  赤岡 明 ,  川崎 康 ,  小川 眞一 ,  中原 文彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-020813
公開番号（公開出願番号）：特開2013-161858
特許番号：特許第5964067号
出願日： 2012年02月02日
公開日（公表日）： 2013年08月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 荷電粒子ビームを偏向器を用いて偏向させ、移動可能なステージ上に載置される試料にパターンを描画する描画部と、 前記荷電粒子ビームの偏向を制御する偏向制御部と、前記ステージの移動を制御するステージ制御部と、前記偏向制御部と前記ステージ制御部に対する制御を行う制御計算機と、から構成される制御部と、を備え、 前記偏向器は、 接地電位を有する金属ブロックから構成されるシールドと、 前記シールド内部に配置され、前記荷電粒子ビームを偏向させる偏向板と、 前記偏向板に偏向アンプを介して前記偏向制御部からの制御信号を印加する同軸ケーブルと、 を備え、前記同軸ケーブルは、前記シールド内部に設けられた孔を通ることにより、前記シールドに被覆される、ことを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  H01J 37/305 ( 200 6.01)
FI (3件)：
H01L 21/30 541 B ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/305 B
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (7件)
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