特許
J-GLOBAL ID：201603012969340215

予備研磨されたガラス基板表面を仕上げ加工する方法

発明者：
岡村 有造

岡村 有造 について

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平林 佑介

平林 佑介 について

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生田 順亮

生田 順亮 について


出願人/特許権者：
旭硝子株式会社

旭硝子株式会社 について


代理人 (3件)： 渡辺 望稔 ,  三和 晴子 ,  竹本 洋一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-158240
公開番号（公開出願番号）：特開2016-113356
出願日： 2015年08月10日
公開日（公表日）： 2016年06月23日
要約：
【課題】表面粗さの悪化が抑制されたTiO2-SiO2ガラス基板表面の仕上げ加工方法の提供。【解決手段】脈理に起因するガラス基板のMSFR測定工程と、TiO2濃度分布測定工程と、局所加工ツールを用いた第1の加工工程と、第1の加工工程の実施後に、研磨剤、および、研磨スラリーと、研磨パッドと、を用いた化学機械研磨により加工する第2の加工工程と、第2の加工工程の実施後に、酸性又はアルカリ性の洗浄液を用いて洗浄する洗浄工程と、を有し、前記ガラス基板主表面の化学的エッチング量と、前記洗浄工程による、前記ガラス基板の化学的エッチング量と、の合計エッチング量が式(1)を満足する様に制御する、ガラス基板の仕上げ加工方法。合計エッチング量(nm)≦(10nm-MSFR0)v/A/ΔTiO2(1)(vは平均エッチング速度、Aはエッチング速度のTiO2濃度依存性)【選択図】図1
請求項（抜粋）：
予備研磨された、TiO2をドーパントとして含み、SiO2を主成分とする石英ガラス(TiO2-SiO2ガラス)基板の仕上げ加工方法であって、 予備研磨後の前記TiO2-SiO2ガラス基板の主表面における、脈理に起因するMSFR(MSFR0)を測定するMSFR測定工程と、 予備研磨後の前記TiO2-SiO2ガラス基板の主表面におけるTiO2濃度分布(ΔTiO2)を測定するTiO2濃度分布測定工程と、 前記TiO2-SiO2ガラス基板の主表面の面積よりも単位加工面積が小さい局所加工ツールを用いて、前記TiO2-SiO2ガラス基板の主表面を加工する、第1の加工工程と、 前記第1の加工工程の実施後の前記TiO2-SiO2ガラス基板の主表面を、研磨剤、および、酸性またはアルカリ性の分散媒からなる研磨スラリーと、研磨パッドと、を用いた化学機械研磨により加工する、第2の加工工程と、 前記第2の加工工程の実施後の前記TiO2-SiO2ガラス基板の主表面を、酸性またはアルカリ性の洗浄液を用いて洗浄する洗浄工程と、を有し、 前記MSFR測定工程で求めた予備研磨後の前記TiO2-SiO2ガラス基板の主表面におけるMSFR0(nm)、および、前記TiO2濃度分布測定工程で求めた前記TiO2-SiO2ガラス基板の主表面におけるTiO2濃度分布(ΔTiO2(wt%))に応じて、前記第2の加工工程に用いる前記酸性またはアルカリ性の分散媒による、前記TiO2-SiO2ガラス基板主表面の化学的エッチング量と、前記洗浄工程に用いる酸性またはアルカリ性の洗浄液による、前記TiO2-SiO2ガラス基板主表面の化学的エッチング量と、の合計エッチング量が下記式(1)を満足するように制御する、予備研磨されたTiO2-SiO2ガラス基板の仕上げ加工方法。 合計エッチング量(nm)≦(10nm-MSFR0)v/A/ΔTiO2 (1) (式(1)中、vはTiO2-SiO2ガラス基板の平均エッチング速度(nm/sec)、Aは、TiO2-SiO2ガラス基板のエッチング速度のTiO2濃度依存性(nm/sec/wt%)である。)
IPC (9件)：
C03C 15/00 ,  B24B 37/11 ,  B24B 37/10 ,  B24B 37/00 ,  G03F 7/20 ,  C03C 19/00 ,  C03C 23/00 ,  C03C 3/06 ,  C03C 3/076
FI (10件)：
C03C15/00 Z ,  B24B37/00 C ,  B24B37/04 G ,  B24B37/00 H ,  G03F7/20 503 ,  G03F7/20 521 ,  C03C19/00 Z ,  C03C23/00 A ,  C03C3/06 ,  C03C3/076
Fターム (74件)：
2H197GA01 ,  2H197GA13 ,  2H197HA03 ,  3C158AA07 ,  3C158CA01 ,  3C158CA06 ,  3C158CB01 ,  3C158DA13 ,  3C158EB01 ,  3C158ED10 ,  4G059AA08 ,  4G059AB11 ,  4G059AC03 ,  4G059AC30 ,  4G059BB01 ,  4G059BB04 ,  4G059BB14 ,  4G062AA01 ,  4G062BB02 ,  4G062DA07 ,  4G062DA08 ,  4G062DB01 ,  4G062DC01 ,  4G062DD01 ,  4G062DE01 ,  4G062DF01 ,  4G062EA01 ,  4G062EA10 ,  4G062EB01 ,  4G062EC01 ,  4G062ED01 ,  4G062EE01 ,  4G062EF01 ,  4G062EG01 ,  4G062FA01 ,  4G062FB03 ,  4G062FB04 ,  4G062FC01 ,  4G062FD01 ,  4G062FE01 ,  4G062FF01 ,  4G062FG01 ,  4G062FH01 ,  4G062FJ01 ,  4G062FK01 ,  4G062FL01 ,  4G062GA01 ,  4G062GA10 ,  4G062GB01 ,  4G062GC01 ,  4G062GD01 ,  4G062GE01 ,  4G062HH01 ,  4G062HH03 ,  4G062HH05 ,  4G062HH07 ,  4G062HH09 ,  4G062HH11 ,  4G062HH13 ,  4G062HH15 ,  4G062HH17 ,  4G062HH20 ,  4G062JJ01 ,  4G062JJ03 ,  4G062JJ05 ,  4G062JJ07 ,  4G062JJ10 ,  4G062KK01 ,  4G062KK03 ,  4G062KK05 ,  4G062KK07 ,  4G062KK10 ,  4G062MM27 ,  4G062NN30
引用特許：
審査官引用 (7件)
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