特許
J-GLOBAL ID:201603015763463689

酸化ジルコニウム材料、およびそれを用いた成膜方法、ならびにその成膜方法によって形成された被膜

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 勝沼 宏仁 ,  永井 浩之 ,  関根 毅 ,  前川 英明 ,  末盛 崇明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-079344
公開番号(公開出願番号):特開2016-199783
出願日: 2015年04月08日
公開日(公表日): 2016年12月01日
要約:
【課題】酸化ジルコニウム被膜を非溶融粒子積層法により歩留まりよく形成させることが可能な酸化ジルコニウム材料とそれにより形成された酸化ジルコニウム膜の提供。【解決手段】平均1次粒子径が1nm〜1000nmの酸化ジルコニウムナノ粒子が凝集した構造を有し、平均2次粒子径が1μm〜100μmであることを特徴とする酸化ジルコニウム材料。【選択図】図1
請求項(抜粋):
平均1次粒子径が1nm〜1000nmの酸化ジルコニウムナノ粒子が凝集した構造を有し、平均2次粒子径が1μm〜100μmであることを特徴とする、非溶融粒子積層法用酸化ジルコニウム材料。
IPC (6件):
C23C 24/04 ,  G01N 27/409 ,  H01M 8/02 ,  H01M 8/12 ,  B23B 27/14 ,  C01G 25/02
FI (6件):
C23C24/04 ,  G01N27/58 B ,  H01M8/02 K ,  H01M8/12 ,  B23B27/14 A ,  C01G25/02
Fターム (23件):
2G004BB04 ,  2G004BC00 ,  3C046FF09 ,  3C046FF27 ,  4G048AA02 ,  4G048AC06 ,  4G048AC08 ,  4G048AD02 ,  4G048AD04 ,  4K044AA03 ,  4K044BA12 ,  4K044BB01 ,  4K044BC12 ,  4K044BC14 ,  4K044CA23 ,  4K044CA27 ,  4K044CA29 ,  4K044CA71 ,  5H026AA06 ,  5H026EE12 ,  5H026HH01 ,  5H026HH05 ,  5H026HH09
引用特許:
審査官引用 (4件)
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