特許
J-GLOBAL ID:201603016003761520
半導体発光装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
日向寺 雅彦
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-146031
公開番号(公開出願番号):特開2014-011275
特許番号:特許第5989420号
出願日: 2012年06月28日
公開日(公表日): 2014年01月20日
請求項(抜粋):
【請求項1】 第1の面と、前記第1の面の反対側に設けられ、p側領域と複数のn側領域とを有する第2の面と、を有する第1の半導体層と、
前記p側領域上に設けられた発光層と、
前記発光層上に設けられた第2の半導体層と、
前記第2の半導体層上に設けられ、前記n側領域以外の前記第2の面側全体に一体に広がるp側電極と、
前記複数のn側領域のそれぞれの上に設けられた複数のn側電極と、
前記p側電極上及び前記n側電極上に設けられた第1の絶縁膜と、
前記第1の絶縁膜上に設けられ、前記第1の絶縁膜を貫通する複数の第1のビアを通じて前記p側電極と接続されたp側配線層と、
前記第1の絶縁膜上に設けられ、前記第1の絶縁膜を貫通する複数の第2のビアを通じて複数の前記n側電極に対して共通に接続されたn側配線層と、
前記p側配線層上に設けられ、前記p側配線層よりも厚いp側金属ピラーと、
前記n側配線層上に設けられ、前記n側配線層よりも厚いn側金属ピラーと、
を備え、
前記第2の面において、前記複数のn側領域はつながらずに互いに分離され、それぞれの前記n側領域のまわりを前記p側領域が囲み、
前記第2の面側を見た平面視で、前記n側配線層は前記n側電極と前記p側電極との間の隙間のすべてを覆うとともに、前記隙間よりも広い領域を覆い、
前記複数の第1のビアの前記p側配線層と接する総面積は、前記複数の第2のビアの前記n側配線層と接する総面積よりも大きい半導体発光装置。
IPC (1件):
FI (1件):
引用特許:
出願人引用 (8件)
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発光素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願2009-217231
出願人:豊田合成株式会社
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半導体発光装置及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2010-130481
出願人:株式会社東芝
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半導体発光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2010-128481
出願人:株式会社東芝
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審査官引用 (8件)
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発光素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願2009-217231
出願人:豊田合成株式会社
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発光素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願2010-190778
出願人:豊田合成株式会社
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半導体発光装置及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2010-130481
出願人:株式会社東芝
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