特許
J-GLOBAL ID:201603016220788550

活性酸素による細胞培養基板の表面改質および滅菌処理

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件): 岡部 讓 ,  臼井 伸一 ,  高梨 憲通 ,  小林 恒夫 ,  齋藤 正巳 ,  木村 克彦 ,  本田 亜希
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-038344
公開番号(公開出願番号):特開2016-158524
出願日: 2015年02月27日
公開日(公表日): 2016年09月05日
要約:
【課題】活性酸素を用いることで、低コストかつ非常に簡便に、細胞培養基板の表面改質と滅菌処理を同時に行う方法を提供すること、及び、生物研究や医学、薬学の分野で利用される滅菌容器を提供すること。【解決手段】活性酸素により生物研究や医学、薬学の分野で利用される細胞培養基板を有する容器の表面改質と滅菌処理を同時に行う方法。当該方法においては、同一チャンバー内において紫外線を酸素に照射することで生成した活性酸素を前記細胞培養基板に曝露しても良く、別途生成した活性酸素を前記細胞培養基板に曝露しても良い。【選択図】図4
請求項(抜粋):
活性酸素により有機高分子材料から成る細胞培養基板の表面改質と滅菌処理を同時に行う方法。
IPC (5件):
C12M 1/12 ,  C12M 1/22 ,  C12M 1/16 ,  C12M 1/24 ,  A01N 59/00
FI (5件):
C12M1/12 ,  C12M1/22 ,  C12M1/16 ,  C12M1/24 ,  A01N59/00 A
Fターム (11件):
4B029AA08 ,  4B029CC02 ,  4B029DG04 ,  4H011AA02 ,  4H011BA01 ,  4H011BB18 ,  4H011BC23 ,  4H011DA22 ,  4H011DC11 ,  4H011DD07 ,  4H011DH02
引用特許:
審査官引用 (6件)
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引用文献:
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