特許

J-GLOBAL ID：201603016978975652

現像可能な下層反射防止膜

発明者： 中 杉 茂 正 ,  宮 崎 真 治 ,  ムニラスナ、パドマナバン ,  ディー.アルベルト、ディオーゼズ
出願人/特許権者： アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ
代理人 (3件)： 勝沼 宏仁 ,  中村 行孝 ,  前川 英明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-532525
特許番号：特許第6005866号
出願日： 2013年09月26日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 下記一般式(1) (式中、 E1〜E3はそれぞれ独立に炭素および窒素からなる群から選択され、これらのうち少なくとも一つが窒素であり、 F1〜F3はそれぞれ独立に酸素および硫黄からなる群から選択され、G1〜G3はそれぞれ独立にビニロキシ基および水素からなる群から選択され、これらのうち少なくとも二つがビニロキシ基であり、かつ p1は、G1がビニロキシ基であるとき2〜10の整数であり、水素であるとき0であり、 p2は、G2がビニロキシ基であるとき2〜10の整数であり、水素であるとき0であり、 p3は、G3がビニロキシ基であるとき2〜10の整数であり、水素であるとき0である) で表わされることを特徴とする架橋剤。

IPC (6件)：

C08K 5/34 ( 200 6.01) ,  G03F 7/11 ( 200 6.01) ,  G03F 7/095 ( 200 6.01) ,  C08L 101/00 ( 200 6.01) ,  C08F 220/00 ( 200 6.01) ,  C08F 212/00 ( 200 6.01)

FI (6件)：

C08K 5/34 ,  G03F 7/11 503 ,  G03F 7/095 ,  C08L 101/00 ,  C08F 220/00 ,  C08F 212/00

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-339364   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 光結像性ポジ型底面反射防止膜
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2007-504508   出願人：エイゼット・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・コーポレイション