光結像性ポジ型底面反射防止膜

発明者： , , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：江崎光史 , 奥村義道 , 鍛冶澤實
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-504508
公開番号（公開出願番号）：特表2008-501985
出願日： 2005年03月23日
公開日（公表日）： 2008年01月24日
要約：

本発明は、水性アルカリ性現像剤中で現像が可能な光結像性ポジ型底面反射防止膜組成物であって、発色団基を有する少なくとも一種の繰り返し単位と、ヒドロキシル及び/またはカルボキシル基を有する少なくとも一種の繰り返し単位とを含んでなるポリマー、末端ビニルエーテル基を有する架橋剤、場合によっては及び光酸発生剤及び/または酸及び/または熱酸発生剤を含む、前記組成物に関する。本発明は更に、このような組成物の使用方法にも関する。

請求項（抜粋）：

水性アルカリ性現像剤中で現像することが可能な光結像性ポジ型底面反射防止膜組成物であって、発色団基を有する少なくとも一種の繰り返し単位と、ヒドロキシル及び/またはカルボキシル基を有する少なくとも一種の繰り返し単位とを含んでなるポリマー、末端ビニルエーテル基を有する架橋剤、場合によっては及び光酸発生剤を含む、上記組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/11 , G03F 7/26 , C08F 12/22 , C08F 20/00

FI (4件)：

G03F7/11 503 , G03F7/26 511 , C08F12/22 , C08F20/00

Fターム (42件)：

2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BC23 , 2H025BC49 , 2H025CA19 , 2H025CA48 , 2H025CB13 , 2H025CB14 , 2H025CB17 , 2H025CB41 , 2H025CB43 , 2H025CB45 , 2H025CC13 , 2H025FA17 , 2H096AA25 , 2H096BA11 , 2H096CA06 , 2H096DA01 , 2H096EA05 , 2H096EA23 , 2H096FA01 , 2H096GA08 , 4J100AB07P , 4J100AB07Q , 4J100AJ02R , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA03R , 4J100BA31Q , 4J100BA41Q , 4J100BC43Q , 4J100BC48Q , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100DA01 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (5件)

フォトレジスト用現像液に溶解される有機底部反射防止組成物及びそれを利用した写真エッチング方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-275002 出願人：三星電子株式会社
反射防止膜の形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-184519 出願人：日産化学工業株式会社
注射針安全化処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-199706 出願人：株式会社三社電機製作所

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