特許
J-GLOBAL ID：201603017065819806
フォトニックバンドギャップファイバ用母材の製造方法、フォトニックバンドギャップファイバの製造方法、フォトニックバンドギャップファイバ用母材、及び、フォトニックバンドギャップファイバ
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
森村 靖男
, 青木 博昭
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-502933
特許番号：特許第5916943号
出願日： 2014年02月25日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 コア用キャピラリと、複数のバンドギャップ用キャピラリと、複数のバンドギャップ用ロッドと、クラッド用キャピラリと、を準備する準備工程と、
前記クラッド用キャピラリの孔内において、前記複数のバンドギャップ用キャピラリが前記コア用キャピラリを囲んで三角格子状に配置されるように前記コア用キャピラリ及びそれぞれの前記バンドギャップ用キャピラリを配置すると共に、それぞれの前記バンドギャップ用キャピラリが3つの前記バンドギャップ用ロッドにより等間隔で囲まれるようにそれぞれの前記バンドギャップ用ロッドを3つの前記バンドギャップ用キャピラリで囲まれる領域に配置する配置工程と、
前記クラッド用キャピラリの前記孔内の隙間を潰して、前記クラッド用キャピラリと前記複数のバンドギャップ用キャピラリと前記複数のバンドギャップ用ロッドと前記コア用キャピラリとを一体化する一体化工程と、
を経て製造されるフォトニックバンドギャップファイバ用母材を線引きする線引工程を備え、
前記バンドギャップ用キャピラリによって形成される空孔の直径dと互いに隣り合う前記空孔の中心間距離Λとの比d/Λが0.95以上0.995以下とされると共に、前記バンドギャップ用ロッドによって形成される柱状ガラス体の半径と前記中心間距離Λとの比r/Λが0.21以上0.08以下とされる
ことを特徴とするフォトニックバンドギャップファイバの製造方法。
IPC (3件)：
C03B 37/012 ( 200 6.01)
, C03B 37/028 ( 200 6.01)
, G02B 6/02 ( 200 6.01)
C03B 37/012 B
, C03B 37/028
, G02B 6/02 451
, G02B 6/02 356 A
