特許
J-GLOBAL ID：201603017247504347
計測方法および計測装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
井上 学
, 戸田 裕二
, 岩崎 重美
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-084467
公開番号（公開出願番号）：特開2014-206472
特許番号：特許第5993781号
出願日： 2013年04月15日
公開日（公表日）： 2014年10月30日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 半導体デバイスの異なる露光により形成された回路パターンの一以上の座標について被計測画像を撮像する第一の画像撮像ステップと、
前記第一の画像撮像ステップにて撮像された該被計測画像から基準画像を選択する第一の選択ステップと、
前記第一の選択ステップにて選択された該基準画像をパターン寸法変動の中心点または中心軸を算出する単位に領域分割する第一の領域分割ステップと、
前記第一の領域分割ステップにより領域分割された領域ごとにパターン寸法変動の中心点または中心軸を算出する第一の中心算出ステップと、
前記第一の中心算出ステップにて算出した該基準画像の中心点または中心軸の情報を用いて、前記第一の選択ステップにて選択された該基準画像と前記第一の画像撮像ステップにて撮像された該被計測画像との差異を定量化する差異定量化ステップと、
前記差異定量化ステップにて定量化した差異をもとに該被計測画像と該基準画像との位置ずれ量を算出する位置ずれ算出ステップと、を有する計測方法。
IPC (4件)：
G01B 15/00 ( 200 6.01)
, G01B 15/04 ( 200 6.01)
, G01N 23/225 ( 200 6.01)
, G06T 1/00 ( 200 6.01)
G01B 15/00 K
, G01B 15/04 K
, G01N 23/225
, G06T 1/00 305 C
