特許
J-GLOBAL ID：201603017609230380

基板洗浄装置及び基板処理装置

発明者：
田中 英明

田中 英明 について


出願人/特許権者：
株式会社荏原製作所

株式会社荏原製作所 について


代理人 (3件)： 渡邉 勇 ,  小杉 良二 ,  廣澤 哲也
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-181670
公開番号（公開出願番号）：特開2014-038983
特許番号：特許第5878441号
出願日： 2012年08月20日
公開日（公表日）： 2014年02月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 長尺状に水平に延びるロール洗浄部材を支持して回転させるロールホルダと、 制御機器を備えたアクチュエータの駆動に伴って昇降する昇降部を有し、基板洗浄時に前記ロール洗浄部材が基板に所定のロール荷重を加えるように前記ロールホルダを昇降させる昇降機構と、 前記昇降機構の昇降部と前記ロールホルダとの間に設置され、前記ロール荷重の方向に働く荷重を測定することにより前記ロール荷重を測定するロードセルと、 前記ロードセルの測定値を元に前記アクチュエータの制御機器を介して前記ロール荷重をフィードバック制御する制御部とを有し、 前記昇降機構の昇降部と前記ロールホルダとの間に、前記ロールホルダをチルトさせるチルト機構を設置したことを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (1件)：
H01L 21/304 ( 200 6.01)
FI (2件)：
H01L 21/304 644 C ,  H01L 21/304 648 G
引用特許：
審査官引用 (8件)
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