特許
J-GLOBAL ID：201603017782635043

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者：
杉原 昌子

杉原 昌子 について

, 
中西 潤次

中西 潤次 について

, 
西村 崇

西村 崇 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-068358
公開番号（公開出願番号）：特開2016-194690
出願日： 2016年03月30日
公開日（公表日）： 2016年11月17日
要約：
【課題】優れた形状、露光から加熱処理までの引き置き時間(PED)によるレジストパターン寸法変動が小さいレジストパターンを製造できるレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される構造単位を含む樹脂、アルカリ可溶性樹脂、酸発生剤及び溶剤を含有するレジスト組成物。 [式中、Ri51は、水素原子又はメチル基を表す。Ri52及びRi53は、互いに独立に、水素原子又は炭素数1〜12の炭化水素基を表す。Ri54は、炭素数5〜20の脂環式炭化水素基を表す。Ri55は、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基を表す。pは、0〜4の整数を表す。mが2以上のとき、複数のRi55は互いに同一であっても異なっていてもよい。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I)で表される構造単位を含む樹脂、アルカリ可溶性樹脂、酸発生剤及び溶剤を含有するレジスト組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/085 ,  G03F 7/20 ,  C08F 12/22 ,  C08F 8/00
FI (6件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/085 ,  G03F7/20 521 ,  C08F12/22 ,  C08F8/00
Fターム (41件)：
2H197AA06 ,  2H197CA03 ,  2H197CE10 ,  2H197HA03 ,  2H197JA22 ,  2H225AF82P ,  2H225AF83P ,  2H225AH03 ,  2H225AH04 ,  2H225AJ04 ,  2H225AJ48 ,  2H225AM10P ,  2H225AM12P ,  2H225AM15P ,  2H225AM79P ,  2H225AN39P ,  2H225AN72P ,  2H225AN86P ,  2H225AN89P ,  2H225BA06P ,  2H225BA26P ,  2H225BA33P ,  2H225CA12 ,  2H225CB06 ,  2H225CC03 ,  2H225CC15 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AF15Q ,  4J100BA02H ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03P ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04H ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA31 ,  4J100DA01 ,  4J100HA19 ,  4J100HC13 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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