特許
J-GLOBAL ID:201603018148137177
堆積膜形成装置及び方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (8件):
岡部 讓
, 臼井 伸一
, 越智 隆夫
, 高橋 誠一郎
, 吉澤 弘司
, 齋藤 正巳
, 木村 克彦
, 田中 尚文
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-176222
公開番号(公開出願番号):特開2014-034704
特許番号:特許第5936481号
出願日: 2012年08月08日
公開日(公表日): 2014年02月24日
請求項(抜粋):
【請求項1】 減圧可能な反応容器と、
前記反応容器内に脱着可能に設置される、円筒状基体を装着するための円筒状の基体ホルダと、
前記基体ホルダの長手方向の一端側を保持し、前記反応容器と電気的に接続される前記基体ホルダの保持手段と
を有する堆積膜形成装置であって、
前記反応容器内に導入された堆積膜形成用の原料ガスを励起させることで励起種を生成し、前記基体ホルダに装着された前記円筒状基体上に堆積膜を形成する堆積膜形成装置において、
前記反応容器が、前記基体ホルダの内部で前記基体ホルダの長手方向に移動又は伸張することが可能な第一の棒状体を備え、
前記基体ホルダの内部に、前記基体ホルダと電気的に接続されている、導電性を有する第二の棒状体が設置されており、
前記第二の棒状体が、前記第一の棒状体が前記基体ホルダの長手方向に移動又は伸張することで押し出されて前記反応容器に接触し、
前記第二の棒状体を介して前記基体ホルダが前記反応容器と電気的に接続される
ことを特徴とする堆積膜形成装置。
IPC (2件):
C23C 16/509 ( 200 6.01)
, G03G 5/08 ( 200 6.01)
FI (3件):
C23C 16/509
, G03G 5/08 360
, G03G 5/08 105
引用特許:
出願人引用 (3件)
-
堆積膜形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2009-140139
出願人:キヤノン株式会社
-
堆積膜形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2008-176815
出願人:キヤノン株式会社
-
堆積膜形成装置および堆積膜形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-125426
出願人:キヤノン株式会社
前のページに戻る