特許

J-GLOBAL ID：201003061945358470

堆積膜形成装置

発明者： 白砂 寿康 ,  小島 康夫
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (3件)： 宮崎 昭夫 ,  石橋 政幸 ,  緒方 雅昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-176815
公開番号（公開出願番号）：特開2010-013717
出願日： 2008年07月07日
公開日（公表日）： 2010年01月21日
要約：

【課題】膜厚や膜特性の均一性に優れ、欠陥の少ない堆積膜を、生産性良く形成できる堆積膜形成装置を提供する。【解決手段】堆積膜形成装置は、反応容器101と、反応容器101の中に設置され、装着された基体102を回転可能に支持する基体ホルダ107とを有する。堆積膜形成装置は、基体ホルダ107の長手方向の一端側を保持し、反応容器101に電気的に接続された基体ホルダ保持手段としての回転支持機構115をさらに有する。堆積膜形成装置は、基体ホルダ107の前記一端側とは反対側の端部に設けられ、基体ホルダ107を反応容器101に電気的に接触させることを可能とする接触部材150を備えている。堆積膜形成装置は、接触部材150を反応容器101に電気的に接触させるために、基体ホルダ107を長手方向に移動させる移動装置125をさらに備えている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

減圧可能な反応容器と、該反応容器の中に設置され、基体を保持する基体ホルダと、該基体ホルダをその長手方向の一端側で回転可能に保持し、前記反応容器に電気的に接続された基体ホルダ保持手段と、を有し、前記反応容器の中に導入された堆積膜形成用の原料ガスを励起させることで励起種を生成して前記基体上に堆積膜を形成する堆積膜形成装置において、 前記基体ホルダの前記一端側とは反対側の端部に設けられ、前記基体ホルダを前記反応容器に電気的に接触させることを可能とする接触手段と、 前記接触手段を前記反応容器に電気的に接触させるために、前記基体ホルダを長手方向に移動させる移動手段と、 を有することを特徴とする堆積膜形成装置。

IPC (2件)：

C23C 16/458 ,  G03G 5/08

FI (3件)：

C23C16/458 ,  G03G5/08 360 ,  G03G5/08 105

Fターム (18件)：

2H068DA23 ,  2H068EA24 ,  2H068EA30 ,  4K030AA01 ,  4K030AA06 ,  4K030AA10 ,  4K030AA17 ,  4K030AA20 ,  4K030BA30 ,  4K030CA02 ,  4K030CA16 ,  4K030FA01 ,  4K030GA02 ,  4K030GA06 ,  4K030GA12 ,  4K030KA16 ,  4K030KA46 ,  4K030LA17

引用特許：

出願人引用 (3件)

• プロセスチャンバのカソードの高周波接地
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-274384   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• 実開平07-010934号公報
  
• 特登録第2907404号明細書
  

審査官引用 (3件)

• 堆積膜形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-283615   出願人：キヤノン株式会社
• 堆積膜形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-055997   出願人：キヤノン株式会社
• 堆積膜形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-281870   出願人：キヤノン株式会社