特許

J-GLOBAL ID：201603018260070476

光学的終点検出システム

発明者： ラマチャンドラン, バラスブラマニアン ,  石井 才人 ,  ハンター, アーロン ミューア
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (2件)： 園田 吉隆 ,  小林 義教
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-508603
特許番号：特許第6019105号
出願日： 2012年04月27日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 終点検出システムを有する処理システムであって、 プロセスチャンバ内で実行されるプロセスに起因して定期的な洗浄を必要とする蓋と内面を有する前記プロセスチャンバと、 前記蓋及び前記蓋の下に堆積した材料から反射される光を検出するように位置決めされる光検出器、および 前記光検出器に結合され、前記検出された反射光に基づいて洗浄プロセスの終点を決定するように構成されるコントローラ を備える終点検出システムと を有する処理システム。

IPC (3件)：

H01L 21/205 ( 200 6.01) ,  H01L 21/02 ( 200 6.01) ,  H01L 21/3065 ( 200 6.01)

FI (3件)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/02 Z ,  H01L 21/302 103

引用特許：

審査官引用 (4件)

• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-313344   出願人：ソニー株式会社
• プラズマ処理装置のプラズマクリーニング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-042675   出願人：株式会社日立製作所
• セルフクリーニングが可能な半導体処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-096444   出願人：日本エー・エス・エム株式会社
• 処理装置及びそのクリーニング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-240292   出願人：東京エレクトロン株式会社