特許
J-GLOBAL ID:201603018742431905

還元剤およびそれを用いた金属の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  関根 宣夫 ,  堂垣 泰雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-266775
公開番号(公開出願番号):特開2016-124824
出願日: 2014年12月26日
公開日(公表日): 2016年07月11日
要約:
【課題】溶媒中での還元反応によって金属イオンを還元し得る新規な還元剤、および前記の還元剤を用いる金属の製造方法を提供する。【解決手段】下記一般式で示される化合物からなる還元剤、(前記式中、X1およびX2はそれぞれ同一であるか又は異なって窒素原子あるいはメチン基であり、R1、R2、R3、R4、R5およびR6はそれぞれ同一であるか又は異なって水素原子、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基又はtert-ブチル基である。)および前記還元剤と金属イオン源とを溶媒中で接触させる金属の製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記一般式で示される化合物からなる還元剤。
IPC (2件):
C07F 7/10 ,  B22F 9/24
FI (2件):
C07F7/10 T ,  B22F9/24 Z
Fターム (17件):
4H049VN01 ,  4H049VP02 ,  4H049VQ59 ,  4H049VR23 ,  4H049VR51 ,  4H049VU32 ,  4H049VW02 ,  4K017AA02 ,  4K017BA02 ,  4K017BA03 ,  4K017BA05 ,  4K017BA06 ,  4K017BA10 ,  4K017EJ01 ,  4K017EJ02 ,  4K017FB03 ,  4K017FB08
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
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引用文献:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (7件)
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