特許
J-GLOBAL ID：201603018990101580
粒子線照射システムおよび治療計画装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
特許業務法人開知国際特許事務所
, 春日 讓
, 猪野木 雄一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-204767
公開番号（公開出願番号）：特開2014-057738
特許番号：特許第5976474号
出願日： 2012年09月18日
公開日（公表日）： 2014年04月03日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 荷電粒子ビームを生成して出射する加速器と、
前記荷電粒子ビームを走査する走査電磁石を有し、前記荷電粒子ビームを照射標的に照射する照射装置と、
前記照射標的の位置を計測する標的監視装置と、
前記標的監視装置からの信号に基づき前記照射装置から照射される荷電粒子ビームの照射開始と照射停止を制御するゲート照射を行う制御装置とを備え、
前記制御装置は、前記照射標的に前記荷電粒子ビームを照射するための複数の照射位置に対して、照射位置毎に出射許可範囲が設定されており、かつ前記照射標的に設定した標的領域に含まれる複数の部分領域に対して、ある前記部分領域にある照射位置の出射許可範囲と、他の前記部分領域にある照射位置の出射許可範囲の少なくとも1つが異なる値に設定されており、
前記制御装置は、前記複数の照射位置のうちの1つの照射位置に前記荷電粒子ビームを照射するとき、前記照射位置毎に設定した出射許可範囲を用い、前記標的監視装置が計算した前記照射標的の位置が前記1つの照射位置に設定された出射許可範囲の中にあるときは前記荷電粒子ビームの照射を開始し、前記照射標的の位置が前記1つの照射位置に設定された出射許可範囲の外にあるときは前記荷電粒子ビームの照射を停止するよう制御することを特徴とする粒子線照射システム。
IPC (1件)：
FI (2件)：
A61N 5/10 H
, A61N 5/10 P
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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