特許
J-GLOBAL ID：201603019658379783

水素分離装置及びその運転方法

発明者：
石川 敬郎

石川 敬郎 について

, 
山村 和広

山村 和広 について


出願人/特許権者：
日立金属株式会社

日立金属株式会社 について


代理人 (1件)： ポレール特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-533683
特許番号：特許第6011538号
出願日： 2012年09月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 水素分離合金膜を用いた膜分離方式により水素混合ガスから水素を分離する水素分離装置の運転方法であって、 前記水素分離合金膜は、Niをx質量%、Tiをy質量%(10≦x<40、10≦y<30)含み、随意的にV、Ta、Co、Fe、Zr、Hfおよび/またはBを固溶の範囲で含み、残部がNbと不可避的不純物からなる合金からなり、 前記水素分離装置を停止するに際し、前記水素分離合金膜の温度が200°C未満となる前に脱水素処理を行うものであり、 前記脱水素処理は、前記水素分離合金膜の温度が300〜600°Cの範囲において前記水素分離合金膜への前記水素混合ガスの供給を停止するステップと、 前記水素混合ガスの供給を停止するステップの後、前記水素分離合金膜の温度が前記300〜600°Cの範囲内で前記水素分離合金膜の少なくとも上流側に酸化性ガスを所定時間供給して前記水素分離合金膜中に残存する水素量を300ppm以下にするステップとを有し、 前記脱水素処理の後、前記水素分離合金膜の温度を200°C未満に低下させるステップを行う、 ことを特徴とする水素分離装置の運転方法。
IPC (3件)：
C01B 3/56 ( 200 6.01) ,  B01D 71/02 ( 200 6.01) ,  B01D 53/22 ( 200 6.01)
FI (3件)：
C01B 3/56 Z ,  B01D 71/02 500 ,  B01D 53/22
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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