特許
J-GLOBAL ID：201603019988697528

熱処理装置

発明者：
浅利 伸二

浅利 伸二 について

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佐藤 英和

佐藤 英和 について

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塩原 伴弘

塩原 伴弘 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-138510
公開番号（公開出願番号）：特開2014-003203
特許番号：特許第6019792号
出願日： 2012年06月20日
公開日（公表日）： 2014年01月09日
請求項（抜粋）：
【請求項1】周囲に加熱手段が設けられると共に下端に形成された開口部が開閉可能になされた蓋部により閉じられた縦型の処理容器内にその下方から上方に向けて不活性ガスを流しつつ保持手段に保持された複数枚の被処理体に対して熱処理を施すようにした熱処理装置において、 前記処理容器内へ導入された前記不活性ガスを加熱するために前記処理容器の下端部にはその周方向に沿って容器下部加熱手段が設けられると共に前記容器下部加熱手段には第3の温度測定手段が設けられており、 前記蓋部には蓋部ヒータ部が設けられると共に前記蓋部ヒータ部には第4の温度測定手段が設けられており、 前記不活性ガスを供給するガス供給系は、 前記不活性ガスを流す不活性ガス流路と、 前記不活性ガス流路に設けられて前記不活性ガスを加熱する不活性ガス加熱部と、 前記不活性ガス加熱部に設けられた第1の温度測定手段と、 前記不活性ガス加熱部と前記処理容器との間に位置する前記不活性ガス流路に沿って設けられた保温ヒータ部と、 前記保温ヒータ部に設けられた第2の温度測定手段と、 温度制御部とを有し、 前記温度制御部は、 前記第1の温度測定手段の測定値に基づいて制御対象である前記不活性ガス加熱部を制御し、 前記第2の温度測定手段の測定値に基づいて制御対象である前記保温ヒータ部を制御し、 前記第3の温度測定手段の測定値に基づいて制御対象である前記容器下部加熱手段を制御し、 前記第4の温度測定手段の測定値に基づいて制御対象である前記蓋部ヒータ部を制御し、 前記熱処理の途中でプロセス温度の設定値が変化した場合には、前記設定値の変化に追従させて前記各制御対象の温度をそれぞれ変化させるように制御することを特徴とする熱処理装置。
IPC (1件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
FI (1件)：
H01L 21/30 567
引用特許：
審査官引用 (4件)
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