特許
J-GLOBAL ID：201603020061200675
基板保持装置、研磨装置、および研磨方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
渡邉 勇
, 小杉 良二
, 廣澤 哲也
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-018538
公開番号（公開出願番号）：特開2013-157541
特許番号：特許第5964064号
出願日： 2012年01月31日
公開日（公表日）： 2013年08月15日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板を研磨面に押圧するための弾性膜を保持するトップリング本体と、
前記トップリング本体とは独立して上下動可能であって、前記基板を囲むように配置されたインナーリテーナリングと、
前記インナーリテーナリングを前記研磨面に対して押圧するインナー押圧機構と、
前記インナーリテーナリングの半径方向外側に設けられ、前記インナーリテーナリングおよび前記トップリング本体とは独立して上下動可能なアウターリテーナリングと、
前記アウターリテーナリングを前記研磨面に対して押圧するアウター押圧機構と、
前記基板の研磨中に基板から前記インナーリテーナリングに加わる横方向の力を受けるとともに、前記インナーリテーナリングから前記アウターリテーナリングへの前記横方向の力の伝達を許容しない支持機構とを備えたことを特徴とする基板保持装置。
IPC (4件)：
H01L 21/304 ( 200 6.01)
, B24B 37/32 ( 201 2.01)
, B24B 37/30 ( 201 2.01)
, B24B 37/005 ( 201 2.01)
H01L 21/304 622 K
, B24B 37/04 P
, B24B 37/04 N
, B24B 37/04 Q
, B24B 37/00 B
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (5件)
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