基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：勝沼宏仁 , 永井浩之 , 森秀行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-265884
公開番号（公開出願番号）：特開2016-127107
出願日： 2014年12月26日
公開日（公表日）： 2016年07月11日
要約：

【課題】チャンバ内の少なくとも基板周囲領域のアンモニア濃度を常に低濃度に保つ。【解決手段】基板(W)に処理を行うときに、吸入空気流路(211)及びパーティクルを除去するフィルタ(214)を介して、チャンバ(20)の外部の空間から取り込まれた吸入空気がチャンバ内に供給される。吸入空気中のアンモニア濃度が測定され、測定されたアンモニア濃度に応じて、吸入空気が基板に到達する前の吸入空気にアンモニアを全く又は殆ど含まない清浄ガス、例えばドライエアまたは窒素ガスが供給され、この清浄ガスが吸入空気に混合される。これにより、チャンバ内の少なくとも基板周囲領域の雰囲気中のアンモニア濃度が予め定められた値以下に維持される。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

内部で基板に処理が施されるチャンバと、前記チャンバの外部の空間から取り込んだ空気である吸入空気を前記チャンバ内に供給するための吸入空気流路と、前記チャンバ内に供給される前の吸入空気からパーティクルを除去するフィルタと、前記吸入空気中のアンモニア濃度を測定するアンモニア濃度計と、前記吸入空気流路を介して前記チャンバに供給される前記吸入空気の流量を調整する吸入空気流量調節機器と、前記チャンバ内の基板周囲領域に到達する前の前記吸入空気と混合されるように、アンモニアを全く又は殆ど含まない清浄ガスを供給する清浄ガス供給路と、前記清浄ガス供給路を介して供給される清浄ガスの流量を調整する清浄ガス流量調節機器と、前記アンモニア濃度計により検出されたアンモニア濃度に基づいて前記吸入空気流量調節機器及び前記清浄ガス流量調節機器の少なくとも一方を制御して、前記チャンバ内の少なくとも基板周囲領域の雰囲気中のアンモニア濃度を予め定められた値以下に維持する制御装置と、を備えた基板処理装置。

IPC (1件)：

H01L 21/304

FI (2件)：

H01L21/304 648G , H01L21/304 648L

Fターム (18件)：

5F157AB02 , 5F157AB12 , 5F157AB33 , 5F157AB48 , 5F157AB90 , 5F157AC26 , 5F157BB22 , 5F157BC01 , 5F157BH21 , 5F157CB03 , 5F157CB13 , 5F157CB14 , 5F157CD01 , 5F157CE61 , 5F157CF16 , 5F157CF18 , 5F157CF42 , 5F157DB37

引用特許：

審査官引用 (4件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-281601 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
液処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2013-116043 出願人：東京エレクトロン株式会社
現像装置の環境制御装置及びその環境制御方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-187883 出願人：松下電器産業株式会社

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