特許
J-GLOBAL ID：201603021155341333
超低濃度金属汚染物質を有するシリコン/ゲルマニウム系ナノ粒子ペースト
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 出野 知
, 関根 宣夫
, 塩川 和哉
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-549579
公開番号（公開出願番号）：特表2016-506441
出願日： 2013年12月17日
公開日（公表日）： 2016年03月03日
要約：
非常に低い金属汚染物質レベルを有するシリコン系ナノ粒子インクを記載している。特に、金属汚染物質レベルは、10億分率(ppb)の範囲で達成することができる。特に興味のあるインクは、一般にポリマーを含み、そのインクレオロジーに影響を与える。金属汚染物質に関して、極性溶媒中、例えばアルコール中に溶解可能なポリマーを純化するのに適している技術を記載している。セルロースポリマーに関して、非常に低いレベルの金属汚染物質を記載している。
請求項（抜粋）：
少なくとも約0.1重量%のシリコン/ゲルマニウム系無機ナノ粒子と、少なくとも約1重量%の少なくとも500ダルトンの分子量を有するポリマーとを含有する、ナノ粒子インクであって、
そのペーストは、鉄含有量が約100ppb以下であり、かつ
前記ポリマーは、セルロース系ポリマー、ポリ(ビニルアルコール)、ポリ(ビニルエステル)、ポリビニルアミド、ポリシロキサンポリマー、ポリアクリレート、ポリアクリル酸、ポリビニルブチラール又はそれらの組み合わせを有する有機ポリマーを含む、
ナノ粒子インク。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (23件)：
4J039AB02
, 4J039AD06
, 4J039AD07
, 4J039AD09
, 4J039AD10
, 4J039AE06
, 4J039AE08
, 4J039AE11
, 4J039BA06
, 4J039BA13
, 4J039BA17
, 4J039BA20
, 4J039BC07
, 4J039BD02
, 4J039BE01
, 4J039BE19
, 4J039BE24
, 4J039BE30
, 4J039CA05
, 4J039EA41
, 4J039EA42
, 4J039GA10
, 4J039GA24
