特許
J-GLOBAL ID：201603021427473811
イオン操作方法及びイオン操作装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人浅村特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-507535
公開番号（公開出願番号）：特表2016-514896
出願日： 2014年01月13日
公開日（公表日）： 2016年05月23日
要約：
イオンを操作する方法及び装置が開示される。この装置は、一対の略平行な表面を有する。内側電極のアレイが各平行な表面に設けられて実質的にその表面の長さに沿って延在する。装置は、第1の外側アレイの電極及び第2の外側アレイの電極を有する。各外側アレイの電極が内側電極の両側に配置され、各平行な表面に設けられて実質的にその表面の長さに沿って延在する。DC電圧が第1及び第2の外側アレイの電極に印加される。各電極にDC電圧を印加することにより、RF電圧が、重畳する電場と共に、内側電極に印加される。イオンが、平行な表面同士の間のイオン閉じ込め領域内を、すなわち、電場の方向の経路に沿って、移動するか又はイオン閉じ込め領域内でトラップされることができる。
請求項（抜粋）：
a.一対の表面と、
b.前記表面に結合された電極のアレイであって、前記表面のうちの少なくとも1つの表面にRF電位が印加され、それにより、前記表面のいずれかに荷電粒子が接近することを妨げる擬似電位が作られるようになっている、電極のアレイと、
c.前記表面の間でのイオンの移動を制御及び制限するためのDC電位の同時印加部と
を備えるイオン操作装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (1件)：
引用特許：
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