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J-GLOBAL ID：201702200495470060   整理番号：17A0976706

Sm_1-xEu_xS多結晶薄膜の構造的特徴

Structural Features of Sm_1-XEu_xS Thin Polycrystalline Films

著者 (5件)： KAMINSKII V. V. (Ioffe Inst., Russian Acad. of Sci., St. Petersburg, RUS) ,  SOLOV’EV S. M. (Ioffe Inst., Russian Acad. of Sci., St. Petersburg, RUS) ,  KHAVROV G. D. (Ioffe Inst., Russian Acad. of Sci., St. Petersburg, RUS) ,  SHARENKOVA N. V. (Ioffe Inst., Russian Acad. of Sci., St. Petersburg, RUS) ,  HIRAI Shinji (Muroran Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
資料名： Semiconductors  (Semiconductors)
巻： 51  号： 6  ページ： 828-830  発行年： 2017年06月 
JST資料番号： T0093A  ISSN： 1063-7826  CODEN： SMICES  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 調べた膜はSmSとEuS粉体の混合物の爆発蒸発で作製した。粉体はxの望む値に従った重量関連で選んだ。2種の膜を調べた。1)X=0,0.1,0.2,0.25,0.50をもつ膜をT₁=470°Cでガラス基板(SiO₂)上に堆積した。2)x=0.167および0.33を持つ膜をT₂=530°Cで堆積した。膜の基本組成をエネルギー分散型分光計によるX線分光分析で分析した。得た結果より,1)Sm_1-xEu_xS多結晶膜はSmSとEuS粉体(その混合物)の同時蒸着で得られる。2)Vegard則からの逸脱はサマリウムイオンの可変価数で得られる。3)堆積試料と比較して薄膜の格子定数の値の変化は膜蒸着中に現れた表面張力に関連している。

シソーラス用語： *サマリウム化合物 ,  *ユウロピウム化合物 ,  *硫化物 ,  *薄膜 ,  構造 ,  同時蒸着 ,  *温度 ,  *格子定数 ,  干渉性散乱 ,  法則 ,  *原子価 ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  多結晶 ,  基板 ,  界面張力
準シソーラス用語： Vegard則 ,  ガラス基板 ,  コヒーレント散乱 ,  *蒸着温度 ,  表面張力 ,  硫化サマリウム ,  硫化ユウロピウム

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (2件)： 多結晶薄膜 ,  構造的特徴