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J-GLOBAL ID：201702212400321954   整理番号：17A0652418

プラント設備用の塗工理論および現象(第3章) 第6回 接着機構と界面(その5/6)

Coating Theory and Phenomenon for the Plant, Chapter 3 Session 6 Adhesion Mechanism and Interface Part 5 and Part 6

著者 (1件)： KAWAI Akira (Nagaoka Univ. Technol.)
資料名： Convertech International  (Convertech International)
巻： 1  号： 5  ページ： 112-116  発行年： 2017年05月 
JST資料番号： L8287B  ISSN： 2432-2822  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標記連載の第6回として,「5)空孔」および「6)相互に作用する引力」について解説した。接着を解析する時,接着界面に対するデータを直接得ることが重要である。しかし,一般的にこれは無し得ないのである。本稿では,微視的パターンと基板間の接着界面を直接観察するためにAFMを使用した。ポリマパターン表面はナノスケールでの僅かな粗度を有しており,単一高分子凝塊が欠落していることから生じる空孔を有する幾つかの界面領域が在る,ことを認めた。これ等の空孔はμm長のパターン当り1個の空孔の比率で存在し,設備生産の観点からは高い頻度である。加えて,これ等の空孔はパターン接着力には寄与しないのである。代わりに,この空孔での応力集中は接着には欠点である。斯様にナノスケールで接着界面の状態を同定するのにAFMを使用できる。一方,塗工膜の表面エネルギーは,接着,濡れそして被覆性等の性質によって大きく影響される。一般に,固体の表面エネルギーを,即ち,分散および極性成分の二成分を使って解析した。本稿では,極性成分の一部として水素結合成分を分離し,そして三成分としての表面エネルギーを解析した。これ等のエネルギー間の分散成分には殆ど依存性が無いことが分った。接着エネルギーと接着強さは正の相関を示したけれども,分散成分がバイアスをもたらしたので,その検出感度は低かった。

シソーラス用語： *工場設備 ,  *塗工 ,  *理論 ,  *現象 ,  接着 ,  機構 ,  界面 ,  *空格子点 ,  *力 ,  面 ,  原子間力顕微鏡 ,  規模 ,  粗度 ,  応力集中 ,  塗膜 ,  表面エネルギー ,  分散【dispersion】 ,  極性 ,  水素結合 ,  三成分系 ,  接着強さ ,  相関 ,  感度 ,  性能 ,  能力 ,  減少
準シソーラス用語： ナノスケール ,  *プラント設備 ,  *空孔【点欠陥】 ,  検出感度 ,  固固界面 ,  接着エネルギー ,  接着界面 ,  *相互作用力

分類 (3件)： 金属への塗装  (YJ04030I) ,  設備管理  (KB02020X) ,  化学プラント一般  (XB02010Z)

引用文献 (51件)：

• Akira Kawai: Characterization of Surface Energetic Behavior by Atomic Force Microscopy, Jpn. J. Appl. Phys., 31, L977-L979 (1992)
• Akira Kawai: Measurement Method of Adhesion Strength between Inorganic Materials and Polymer by Using Atomic Force Microscopy, J. Ceramic Society of Japan, 102, 1102-1104 (1994)
• Akira Kawai: Correlation Between Thin-film Surface Forces and Surface Free Energy Components Detected by Atomic Force Microscopy, J. Adhesion Society of Japan, 31, 237-240 (1995)
• Akira Kawai: Analysis of Adhesion Property of Photoresist Micro Pattern by Scanning Method of Micro Tip with Atomic Force Microscope, J. Adhesion Society of Japan, 36, 2-9 (2000)
• Akira Kawai: Direct Measurement of Resist Pattern Adhesion on the Surface with Silane-coupling Treatment by Atomic Force Microscope (AFM), J. Photopolymer Science and Technology, 14, 513-518 (2001)

タイトルに関連する用語 (5件)： プラント設備 ,  塗工 ,  理論 ,  現象 ,  界面