文献

J-GLOBAL ID：201702213985475370   整理番号：17A0869620

単結晶基板上に形成したエピタキシャルRCo₅規則合金薄膜の構造解析

Structure Analysis of RCo₅ Ordered Alloy Epitaxial Thin Films Formed on Single-Crystal Substrates

著者 (8件)： 大竹充 (中央大 理工) ,  大竹充 (工学院大 工) ,  落合亮真 (中央大 理工) ,  堀田裕介 (中央大 理工) ,  山田真 (中央大 理工) ,  二本正昭 (中央大 理工) ,  桐野文良 (東京藝術大 大学院美術研究科) ,  稲葉信幸 (山形大 工)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 117  号： 80(MR2017 1-10)  ページ： 23-28  発行年： 2017年06月01日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 単結晶基板上にエピタキシャル成長させたCr(100),Cr(211),Cu(111)下地層上に,基板温度500°CでR₁₇Co₈₃(at.%,R=Sm,Gd,Y,Er)合金薄膜を形成し,膜成長と構造について調べた。Cr(100)およびCr(211)下地層の場合,Sm-CoおよびGd-Co膜は,D2_d型構造のRCo₅エピタキシャル六方晶から構成されたのに対して,Y-CoおよびEr-Co膜にはアモルファ相が含まれた。より低い融点を持つR元素を用いることにより,結晶化が促進される傾向が認められた。一方,Cu(111)下地層の場合,すべてのR元素に対して,RCo₅エピタキシャル結晶が形成された。下地層のCu原子がR-Co膜に拡散し,RCo₅構造におけるCoサイトを部分置換することにより,規則相形成が安定化させられているものと解釈された。(著者抄録)

シソーラス用語： 単結晶 ,  基板 ,  *エピタクシー ,  規則合金 ,  *金属薄膜 ,  磁性合金 ,  構造解析

分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  金属の結晶成長  (BK13030M)

引用文献 (16件)：

• E. E. Fullerton, C. H. Sowers, J. P. Perspn, S. D. Bader, X. Z. Wu, and D. Lederman: Appl. Phys. Lett., 69, 2438 (1996).
• A. Singh, R. Tamm, V. Neu, S. F?hler, W. Skrotzki, L. Schultz, and B. Holzapfel: J. Appl. Phys., 97, 093902 (2005).
• E. E. Fullerton, J. S. Jiang, C. Rehm, C. H. Sowers, S. D. Bader, and X. Z. Wu: Appl. Phys. Lett., 71, 1579 (1997).
• M. Benaissa, K. M. Krishnan, E. E. Fullerton, and J. S. Jiang: IEEE Trans. Magn., 34, 1204 (2008).
• Y. Hotta, M. Yamada, T. Yanagawa, M. Ohtake, F. Kirino, and M. Futamoto: Digests of the 37th Annual Conference on Magnetics in Japan 2013, p.217.

タイトルに関連する用語 (5件)： 単結晶基板 ,  エピタキシャル ,  規則 ,  合金薄膜 ,  構造解析