文献
J-GLOBAL ID:201702215049547740   整理番号:17A1220742

有機金属気相エピタキシによってパルスレーザ蒸着AlN/GaNテンプレート上に成長したGaNの極性制御

Polarity control of GaN grown on pulsed-laser-deposited AlN/GaN template by metalorganic vapor phase epitaxy
著者 (7件):
資料名:
巻: 55  号: 5S  ページ: 05FA04.1-05FA04.5  発行年: 2016年05月 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  CODEN: JJAPB6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
有機金属気相エピタキシ成長Ga極性GaNテンプレート上のパルスレーザ蒸着成長N極性AlN上へ再成長したGaNの極性制御について報告した。KOH水溶液を使って確認した再成長GaNの極性を,低温GaN(LT-GaN)バッファ層の挿入によってAlNの極性から反転できる。LT-GaNバッファ層上のGaNのGa極性の選択を,LT-GaNの結晶粒の混合された極性と高温成長の初期段階中にN極性結晶粒をすっかり覆うGa-極性の結晶粒のより高い成長速度によるものであると推測した。X線ロッキングカーブの解析はN極性の再成長GaN中の刃状転位密度はGa-極性の再成長GaNより1/5から1/8と少ないことを明らかにした。N-極性GaNはより高温でN-極性AlN上の直接に成長する。したがって,核の島がLT-GaNよりも大きく成長し,刃状転位が現れる島の間のコアレッセンス境界の面積比率が小さくなる。(翻訳著者抄録)
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
半導体薄膜  ,  半導体の格子欠陥 

前のページに戻る