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J-GLOBAL ID:201702218157768536   整理番号:17A0955305

NiドープMoS2における残留光伝導の観測

Observation of persistent photoconductivity in Ni-doped MoS2
著者 (5件):
資料名:
巻: 56  号: 4S  ページ: 04CP09.1-04CP09.4  発行年: 2017年04月 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  CODEN: JJAPB6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,化学気相輸送によってNiドープMoS2を成長させた。光伝導評価結果から,NiドープMoS2は室温で,明確なドーピングレベル1.2eVおよび電気伝導度σ=9.92×10-7S cm-1をもつことが明らかになった。この電気伝導度は,Ni原子による不純物状態のために,アンドープMoS2(σ≒7.913×10-5S cm-1)よりも小さい。Hall効果測定の結果,NiドープMoS2試料はn型であり,アンドープMoS2よりも高い抵抗および低い移動度をもつことが分かった。さらに,MoS2ベース光検出器の動作特性を理解するために,アンドープとNiドープMoS2光検出デバイスを作製した。残留光伝導に関して,MoS2PDにNi原子をドープすると,立ち上がり時間/立下り時間は共に,0.33/0.68から0.14/0.43sへと減少した。本研究では,Ni原子によってトラップ状態を形成する小さな格子欠陥が生じ,その結果,高抵抗および低移動度・小活性エネルギー・短減衰時間がもたらされることを示した。(翻訳著者抄録)
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分類 (1件):
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光導電素子 
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