アルミニウムおよびイットリウムの酸化物及びふっ化物の相対的スパッタリング速度【Powered by NICT】

Kim Dae-Min; Jang Mi-Ran; Oh Yoon-Suk; Kim Seongwon; Lee Sung-Min; Lee Sang-Ho

文献

J-GLOBAL ID：201702218646940137 整理番号：17A0445500

アルミニウムおよびイットリウムの酸化物及びふっ化物の相対的スパッタリング速度【Powered by NICT】

Relative sputtering rates of oxides and fluorides of aluminum and yttrium

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資料名：
巻： 309 ページ： 694-697 発行年： 2017年
JST資料番号： D0205C ISSN： 0257-8972 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

フルオロカーボンプラズマへの曝露過程での酸化物セラミックの浸食挙動を理解するために,AlF_3,YF_3,Al_2O_3,Y_2O_3とSiO_2の薄膜をシリコン上に蒸着し,その表面を異なる運動エネルギーのArイオンを照射した。相対的スパッタリング速度を測定すると,フッ化物はその化学への強い依存性のある酸化物よりも速くスパッタしたが,酸化物のスパッタリング速度はほぼ同じであった。AlF_3はYF_3より数倍高速スパッタしたという事実は,フルオロカーボンプラズマ下でY_2O_3よりAl_2O_3における以前に観察された速いエッチング速度と一致した。これらの結果は,フルオロカーボンプラズマ下でのセラミックの浸食は,フルオロカーボンプラズマとの相互作用によって同時に誘導されたふっ素化表面の物理的除去過程により生じることを支持した。これらの結果に基づいて,フルオロカーボンプラズマ下でのシリコンウエハ処理チャンバー中の汚染粒子の酸化物セラミックスと生産のプラズマ抵抗との関係は,それらの熱的性質と数値シミュレーションに基づいて検討した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

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金属材料へのセラミック被覆 , 非金属材料へのセラミック被覆 , 腐食 , 酸化物薄膜

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