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J-GLOBAL ID：201702219865539764   整理番号：17A0400984

Li_3NbO_4エピタキシャル膜中に埋込まれた低高さ/幅アスペクト比Li_3Ni_2NbO_6ディスクの自己集合【Powered by NICT】

Self-assembly of very-low height/width aspect-ratio Li₃Ni₂NbO₆ disks embedded in Li₃NbO₄ epitaxial films

著者 (8件)： Kawasoko Hideyuki (Advanced Institute for Material Research (AIMR), Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba, Sendai 980-8577, Japan) ,  Shimizu Ryota (Department of Chemical Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1 Ookayama, Meguro, Tokyo 152-8550, Japan) ,  Takagi Yoshitaka (Advanced Institute for Material Research (AIMR), Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba, Sendai 980-8577, Japan) ,  Yamamoto Kuniko (Advanced Institute for Material Research (AIMR), Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba, Sendai 980-8577, Japan) ,  Sugiyama Issei (Department of Chemical Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1 Ookayama, Meguro, Tokyo 152-8550, Japan) ,  Shiraki Susumu (Advanced Institute for Material Research (AIMR), Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba, Sendai 980-8577, Japan) ,  Hitosugi Taro (Advanced Institute for Material Research (AIMR), Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba, Sendai 980-8577, Japan) ,  Hitosugi Taro (Department of Chemical Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1 Ookayama, Meguro, Tokyo 152-8550, Japan)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 621  ページ： 202-206  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ここでは,非常に低い高さ/幅アスペクト比を持つLi_3Ni_2NbO_6(LNNO)エピタキシャルディスクの自己集合を報告した。エピタキシャルLNNO薄膜は400°Cの基板温度(T,S)で得られ,パルスレーザ蒸着法を用いて,Tを600°Cまで,Li_3NbO_4エピタキシャルドメインは,LNNOエピタキシャル膜内部に形成した。さらにTを700°CまでLi_3NbO_4膜中に埋め込まれたLNNOディスク(直径が数μmと~100nmの典型的な高さ)の形成をもたらした。興味深いことに,透過型電子顕微鏡観察は,LNNOディスクは非晶質化合物によるLi_3NbO_4膜から分離され,平面コア-シェル構造の形成を示していることを明らかにした。これらのユニークなナノ構造の成長過程を理解することは,薄膜マトリックス中に埋込まれた高い階層構造の作製への道を開いた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *自己集合 ,  自己組織化 ,  パルスレーザ蒸着 ,  ナノ構造 ,  *エピタクシー ,  ナノ複合材料 ,  *アスペクト比 ,  薄膜 ,  *円板 ,  階層構造 ,  基板温度 ,  *リチウム ,  コアシェル構造
準シソーラス用語： 透過型電子顕微鏡法 ,  *エピタキシャル膜 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 自己組織化ナノ構造 ,  ナノ複合材料酸化物 ,  エピタクシー ,  パルスレーザ蒸着

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： エピタキシャル膜 ,  高さ ,  アスペクト比 ,  ディスク ,  自己集合