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J-GLOBAL ID：201702221407369677   整理番号：17A1544933

拡散面内薄膜非晶質薄膜におけるバリスティック面外熱輸送まで【Powered by NICT】

From diffusive in-plane to ballistic out-of-plane heat transport in thin non-crystalline films

著者 (4件)： Heiderhoff R. (University of Wuppertal, Institute of Electronic Devices, Rainer-Gruenter-Str. 21, 42119 Wuppertal, Germany) ,  Haeger T. (University of Wuppertal, Institute of Electronic Devices, Rainer-Gruenter-Str. 21, 42119 Wuppertal, Germany) ,  Dawada K. (University of Wuppertal, Institute of Electronic Devices, Rainer-Gruenter-Str. 21, 42119 Wuppertal, Germany) ,  Riedl T. (University of Wuppertal, Institute of Electronic Devices, Rainer-Gruenter-Str. 21, 42119 Wuppertal, Germany)
資料名： Microelectronics Reliability  (Microelectronics Reliability)
巻： 76-77  ページ： 222-226  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0530A  ISSN： 0026-2714  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 走査型近接場熱顕微鏡法と等価熱回路モデリングの支援による拡散面内熱流束からのナノスケール熱源から面外熱流束のような弾道Stefan-Boltzmannへの遷移を実証した。フォノン平均自由行程より大きい厚さの原子層蒸着した薄い非晶質膜で得られた結果は,薄膜技術に基づく最新のデバイスの熱管理と信頼性研究に著しい影響を与える。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： モデリング ,  フォノン ,  熱流束 ,  *薄膜 ,  平均自由行程 ,  近接場 ,  熱管理 ,  熱源 ,  顕微鏡観察 ,  信頼性
準シソーラス用語： 薄膜技術 ,  非晶質膜 ,  ナノスケール ,  *熱輸送 ,  *非晶質薄膜 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 交差面熱輸送 ,  フォノン散乱 ,  弾道Stefan-Boltzmann熱輸送 ,  SThM

分類 (1件)： 固体デバイス計測・試験・信頼性  (NC03040G)

タイトルに関連する用語 (6件)： 拡散 ,  薄膜 ,  非晶質薄膜 ,  バリ ,  スティック ,  熱輸送