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J-GLOBAL ID：201702223978805720   整理番号：17A1371181

ミニマルファブのための小型HiPIMS型スパッタ成膜装置の開発

Development of Miniature Sputtering Deposition Equipment for Minimal Fab with HiPIMS Operations

著者 (8件)： 小木曽久人 (産業技術総合研究所 製造技術研究部門) ,  行村建 (産業技術総合研究所 ナノエレクトロニクス研究部門) ,  中野禅 (産業技術総合研究所 製造技術研究部門) ,  田中宏幸 (産業技術総合研究所 ナノエレクトロニクス研究部門) ,  KHUMPUANG Sommawan (産業技術総合研究所 ナノエレクトロニクス研究部門) ,  薮田勇気 (誠南工業株式会社) ,  亀井龍一郎 (誠南工業株式会社) ,  原史朗 (産業技術総合研究所 ナノエレクトロニクス研究部門)
資料名： Journal of the Vacuum Society of Japan  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
巻： 60  号： 9  ページ： 365-371(J-STAGE)  発行年： 2017年 
JST資料番号： G0194A  ISSN： 1882-2398  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 最小ファブは,生産個数の少ない半導体製造に対して効率的に,かつ,建設のために膨大な投資をしなくてもすむように提案された半導体製造システムである。本稿で述べる大電力パルスマグネトロンスパッタリング(HiPIMS)型のスパッタ成膜装置は,最小製造装置のために試作されたものであり,実際のデバイス作成の導電膜(Al)の成膜に成功した。小型でいろいろな放電条件での成膜が可能になることから,半導体製造のための最小製造装置への応用が可能であることが示された。開発した小型HiPIMSシステムは,ハイパワーのプラズマを発生できるが,全体の電源容量は小さくできるので,イニシャルコストも安く,実験用設備としてHiPIMSの可能性をテストするのに適したシステムである。

シソーラス用語： *マグネトロンスパッタリング ,  *スパッタ蒸着 ,  *蒸着装置 ,  *小型 ,  アルミニウム ,  薄膜 ,  プラズマ ,  原価 ,  *試験装置
準シソーラス用語： *大電力パルスマグネトロンスパッタリング ,  導電膜 ,  初期コスト

分類 (1件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

引用文献 (3件)：

• 1) World Semiconductor Trade Statistics, http://www.wsts.org (Last accessed: 2017-08-03)
• 2) V. Kouznetsov, K. Macák, J. M. Schneider, U. Helmersson and I. Petrov: Surf. Coat. Tech., 122 (1999) 290.
• 3) D. J. Christie: J. Vac. Sci. Technol. A, 23 (2005) 330.

タイトルに関連する用語 (4件)： ミニマルファブ ,  HiPIMS ,  スパッタ成膜 ,  開発