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J-GLOBAL ID：201702225592875348   整理番号：17A1060595

自己集合ナノ球リソグラフィーにより作製したナノ構造シリコンにおける吸収促進【Powered by NICT】

Absorption enhancement in nanostructured silicon fabricated by self-assembled nanosphere lithography

著者 (9件)： Li Qiang (Key Laboratory of Optical System Advanced Manufacturing Technology, Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences, Changchun, 130033, China) ,  Li Qiang (University of the Chinese Academy of Sciences, Beijing, 100039, China) ,  Gao Jinsong (Key Laboratory of Optical System Advanced Manufacturing Technology, Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences, Changchun, 130033, China) ,  Gao Jinsong (University of the Chinese Academy of Sciences, Beijing, 100039, China) ,  Li Zizheng (Key Laboratory of Optical System Advanced Manufacturing Technology, Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences, Changchun, 130033, China) ,  Yang Haigui (Key Laboratory of Optical System Advanced Manufacturing Technology, Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences, Changchun, 130033, China) ,  Liu Hai (Key Laboratory of Optical System Advanced Manufacturing Technology, Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences, Changchun, 130033, China) ,  Wang Xiaoyi (Key Laboratory of Optical System Advanced Manufacturing Technology, Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences, Changchun, 130033, China) ,  Li Yudong (Key Laboratory of Optical System Advanced Manufacturing Technology, Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences, Changchun, 130033, China)
資料名： Optical Materials  (Optical Materials)
巻： 70  ページ： 165-170  発行年： 2017年 
JST資料番号： W0468A  ISSN： 0925-3467  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,シリコンウエハ上にナノ円錐アレイの詳細な実験的及び理論的解析,研磨したシリコンと比較して吸収を大いに向上できるを示した。実験吸収率は400nmから1100nmの波長範囲で98.7%に達した。吸収増強の機構は空気シリコン表面に等級指数を構築することにより,反射を抑制できることをナノ円錐アレイに起因した。さらに,超薄13nm厚金膜はナノ円錐アレイによる表面プラズモンを励起できる上にスパッタリングしたおよび近赤外領域の吸収を大きく向上させることができる。はまた,そのような高い吸収の物理機構に関する深い理解を与えた。この種ナノ円錐アレイの簡単で低コストのコロイド球リソグラフィーと反応性イオンエッチング,太陽光発電,分光法,光検出器,センサ,特に近赤外領域におけるシリコンベース応用のためのより適切な候補となるにより作製することができた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *ケイ素 ,  RIE【エッチング】 ,  波長 ,  *自己集合 ,  コロイド ,  光検出器 ,  表面プラズモン ,  *ナノ構造 ,  *リソグラフィー ,  吸収係数 ,  センサ
準シソーラス用語： 近赤外領域 ,  ナノコーン ,  シリコンウエハ ,  *ナノスフィアリソグラフィー , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： サブ波長構造 ,  Nanostructures ,  表面プラズモン ,  超吸収体

分類 (2件)： 無機化合物のルミネセンス  (BM08093J) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： 自己集合 ,  ナノ球リソグラフィー ,  作製 ,  ナノ構造 ,  シリコン ,  吸収促進