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J-GLOBAL ID：201702225641094679   整理番号：17A0550203

電界印加下における正方晶Pb(Zr,Ti)O₃膜の結晶構造の時間応答

著者 (9件)： 佐藤智也 (東京工大) ,  一ノ瀬大地 (東京工大) ,  三村和仙 (東京工大) ,  根本祐一 (東京工大) ,  清水荘雄 (東京工大) ,  今井康彦 (JASRI) ,  内田寛 (上智大) ,  坂田修身 (NIMS/SPring-8) ,  舟窪浩 (東京工大)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 64th  ページ： ROMBUNNO.16p-411-2  発行年： 2017年03月01日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2436-7613  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ジルコニウム酸チタン酸鉛 ,  *誘電体薄膜 ,  圧電体 ,  *結晶構造 ,  X線分析 ,  *特性 ,  *電場効果 ,  歪
準シソーラス用語： X線解析 ,  *圧電特性 ,  *電界効果

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  誘電体一般  (BM05010F) ,  無機化合物の結晶構造一般  (BK07001T)

タイトルに関連する用語 (8件)： 電界印加 ,  正方晶 ,  Pb ,  Zr ,  Ti ,  O3 ,  結晶構造 ,  時間応答