文献

J-GLOBAL ID：201702225822830860   整理番号：17A0279588

強化加速勾配による超相対論的電子の誘電体レーザ加速のためのシリコンの非対称二重ピラー格子の最適化

Optimized Silicon Asymmetric Dual-Pillar Grating for Dielectric Laser Acceleration of Subrelativistic Electrons with Enhanced Accelerating Gradient

著者 (5件)： CHEN Zhaofu (Univ. Tokyo, Tokyo) ,  KOYAMA Kazuyoshi (Univ. Tokyo, Ibaraki) ,  KOYAMA Kazuyoshi (High Energy Accelerator Res. Organization (KEK), Ibaraki) ,  YOSHIDA Mitsuhiro (High Energy Accelerator Res. Organization (KEK), Ibaraki) ,  UESAKA Mitsuru (Univ. Tokyo, Ibaraki)
資料名： レーザー研究  (レーザー学会誌)
巻： 45  号： 2  ページ： 104-107  発行年： 2017年02月20日 
JST資料番号： X0335A  ISSN： 0387-0200  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 誘電体レーザ加速器は,粒子加速器の小型化の大きな可能性を秘めている。サブ相対論的電子に対して加速勾配を有するシリコンの二重ピラー格子構造を数値的に検討した結果を提示する。非対称構成を利用して,より低いスキューを有する加速モードを生成した。ピークフルエンスが20mJ/cm²,パルス長が100fsの1550nmのレーザで駆動し,この構造により,50keVの電子に対して0.42GV/mの最大勾配を達成することができた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *相対論的電子ビーム ,  *ケイ素 ,  *加速 ,  格子 ,  最適化 ,  非対称性 ,  誘電体 ,  フルエンス ,  加速器 ,  パルス幅 ,  格子構造 ,  小型化 ,  *レーザ照射
準シソーラス用語： *レーザー加速 ,  電子加速 ,  非対称 ,  粒子加速器

分類 (2件)： レーザの応用  (BD04100V) ,  電子ビーム,イオンビーム  (BD02030F)

引用文献 (14件)：

• R. J. England, R. J. Noble, K. Bane, D. H. Dowell, C. K. Ng, J. E. Spencer, S. Tantawi, Z. Wu, R. L. Byer, E. Peralta, et al.: Rev. Mod. Phys. 86 (2014) 1337.
• R. J. England: IEEE J. Sel. Topics Quantum Electron. 22 (2016) 171.
• M. Lenzner, J. Krüger, S. Sartania, Z. Cheng, C. Spielmann, G. Mourou, W. Kautek, and F. Krausz: Phys. Rev. Lett. 80 (1998) 4076.
• K. Soong, R. L. Byer, E. R. Colby, R. J. England, and E. A. Peralta: AIP Conf. Proc. 1507 (2012) 511.
• K. Koyama, S. Otsuki, M. Uesaka, M. Yoshida, and A. Aimidula: J. Phys. B: At. Mol. Opt. Phys. 47 (2014) 234005.

タイトルに関連する用語 (11件)： 強化 ,  加速 ,  勾配 ,  相対論的電子 ,  誘電体 ,  レーザ加速 ,  シリコン ,  非対称 ,  ピラー ,  格子 ,  最適化