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J-GLOBAL ID：201702231291754899   整理番号：17A1767448

表示装置プロセス用の大容量,容量結合プラズマ放電の二次元流体シミュレーション

Two-Dimensional Fluid Simulation of Large-Scale, Capacitively-Coupled Plasma Discharge for Display Device Processes

著者 (8件)： JEONG YoungDo (Korea Aerospace Univ., Goyang, KOR) ,  LEE Young Jun (Korea Aerospace Univ., Goyang, KOR) ,  KWON Deuk-Chul (National Fusion Res. Inst., Gunsan, KOR) ,  LEE Sang-Jin (SungKyunKwan Univ., Suwon, KOR) ,  JEON Jae-Hong (Korea Aerospace Univ., Goyang, KOR) ,  SEO Jong Hyun (Korea Aerospace Univ., Goyang, KOR) ,  TONG Lizhu (Keisoku Engineering System Co., Ltd., Tokyo, JPN) ,  CHOE HeeHwan (Korea Aerospace Univ., Goyang, KOR)
資料名： Journal of Nanoscience and Nanotechnology  (Journal of Nanoscience and Nanotechnology)
巻： 17  号： 11  ページ： 8411-8417  発行年： 2017年11月 
JST資料番号： W1351A  ISSN： 1533-4880  CODEN： JNNOAR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 表示装置の薄膜トランジスタ製造に用いられる容量結合プラズマ(CCP)の流体モデルに基づくプラズマシミュレーションを行った。シミュレーションでは,断面が二次元のプロセスチャンバを用いた。二次元モデルの結果は電極の中心で一次元モデルと良く似ていたが,プラズマパラメータのプロファイルは非対称幾何構造故に異なった。鞘の長さは圧力と電圧条件により異なり,圧力が上昇すると鞘の長さが短くなり,有効プラズマ長が伸びた。高電圧下では鞘が伸長した。鞘の長さを最良に制御するためには,圧力条件の変更がより効果的であると思われる。プラズマパラメータはプロセス条件に依存した。

シソーラス用語： *プラズマ ,  *放電 ,  *表示装置 ,  プラズマ曝露 ,  計算機シミュレーション ,  シミュレーション ,  モデル ,  プラズマパラメータ ,  ドナー ,  電子密度
準シソーラス用語： *プラズマ放電 ,  *容量結合プラズマ ,  流体シミュレーション

分類 (1件)： 表示機器  (NC06030Q)

タイトルに関連する用語 (5件)： プロセス ,  大容量 ,  容量結合プラズマ ,  放電 ,  流体シミュレーション