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J-GLOBAL ID:201702233394317030   整理番号:17A1544990

極端な短絡手術における平面およびトレンチ電力SiC MOSFETデバイスのゲート漏れ電流解析とモデル化【Powered by NICT】

Gate leakage-current analysis and modelling of planar and trench power SiC MOSFET devices in extreme short-circuit operation
著者 (2件):
資料名:
巻: 76-77  ページ: 532-538  発行年: 2017年 
JST資料番号: C0530A  ISSN: 0026-2714  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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本論文の目的は,平面およびトレンチゲート構造を含む五つの異なる製造業者からの1200V SiC MOSFETの短絡(SC)故障操作中のゲート漏れ電流挙動の完全な解析を提示することである。耐久性とゲート漏れレベルはチップサイズの関数として評価した。最後に,ゲート漏れ電流はモデル化とロバスト性を試験した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
分類
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トランジスタ  ,  半導体集積回路 

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