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J-GLOBAL ID:201702234486896963   整理番号:17A1238009

GaCl_3を用いた三ハロゲン化物気相エピタクシーによって成長させたGaNのための準平衡結晶形状と運動学的Wulffプロット【Powered by NICT】

Quasiequilibrium crystal shape and kinetic Wulff plot for GaN grown by trihalide vapor phase epitaxy using GaCl3
著者 (5件):
資料名:
巻: 254  号:ページ: null  発行年: 2017年 
JST資料番号: C0599A  ISSN: 0370-1972  CODEN: PSSBBD  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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三ハロゲン化物気相エピタクシー(THVPE)による準平衡結晶形状(準ECS)を決定するための非極性m面(1010)と極性c面(0001)基板の選択領域成長(SAG)を示した。結果は,水素化物気相エピタクシー(HVPE)によるものと比較した。極性N面(0001)及び非極性m面{101 0}であったTHVPEにより成長させた準ECSの高温でのみ新たな半極性面{101 1}と一致して安定であった。{101 1}のような極性Ga面(0001)およびGa面感覚半極性面の明瞭なファセットは見られなかった。THVPEの速度論的WulffプロットはSAGの各新たなファセットの成長速度を用いて構築した。鳥のm面とc面上に成長させた選択領域GaN結晶の視点SEM画像THVPE。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (4件):
分類
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半導体のルミネセンス  ,  励起子  ,  固相転移  ,  半導体薄膜 

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