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J-GLOBAL ID：201702235185030644   整理番号：17A0463108

SCILナノインプリント解決法:ウエハスケールサブ10nm分解能のための高容量ソフトNIL

SCIL Nanoimprint Solutions; high volume soft NIL for wafer scale sub-10nm resolution

著者 (3件)： VOORKAMP R. (Philips Group Innovation, Eindhoven, NLD) ,  VERSCHUUREN M. A. (Philips Group Innovation, Eindhoven, NLD) ,  VAN BRAKEL R. (Philips Group Innovation, Eindhoven, NLD)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 10032  ページ： 100320F.1-100320F.4  発行年： 2016年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ソフトスタンプベースナノインプリント(NIL)は,ラージスケールでのナノパターンの経済的な作製を提供した。所有コストが変わる各種応用に関して,異なるトレードオフがNILプロセスとポストプロセシングステップとの間になされねばならない。企業が新しい製造に乗り出す前に,価値連鎖が,専門的なツーリング,消耗品,及びプロセス開発により明確に定義されなければならない。単一層応用に初期の焦点を置いて高容量作製へ,そして近い将来においては大量生産ウエハ利用PVへの基板共形インプリントリソグラフィー技術のスケーリングを想定した。

シソーラス用語： *パターン転写 ,  *押付成形 ,  印字 ,  *リソグラフィー ,  *型 ,  太陽光発電 ,  マスク ,  原価低減 ,  *太陽電池 ,  スタンプ ,  *ナノパターン ,  シリコン太陽電池 ,  バリューチェーン ,  減少 ,  変化
準シソーラス用語： *ナノインプリント ,  *ナノインプリントリソグラフィー ,  価値連鎖 ,  PV【太陽光発電】 ,  EUVマスク

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  太陽電池  (NC03084O)

タイトルに関連する用語 (5件)： ナノインプリント ,  解決法 ,  分解能 ,  ソフト ,  NIL