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J-GLOBAL ID：201702239308124510   整理番号：17A1012928

剪断誘起多層ラメラベシクル形成に対するラメラ間相互作用の効果

Effect of interlamellar interactions on shear induced multilamellar vesicle formation

著者 (10件)： Kawabata Y. (Department of Chemistry, Tokyo Metropolitan University, Hachioji, Tokyo 192-0397, Japan) ,  Bradbury R. (Center for Exploration of Energy and Matter, Department of Physics, Indiana University, Bloomington, Indiana 47408, USA) ,  Kugizaki S. (Department of Chemistry, Tokyo Metropolitan University, Hachioji, Tokyo 192-0397, Japan) ,  Weigandt K. (NIST Center for Neutron Research, National Institute of Standards and Technology, Gaithersburg, Maryland 20899-6102, USA) ,  Melnichenko Y. B. (Biology and Soft Matter Division, Oak Ridge National Laboratory, Oak Ridge, Tennessee 37831-6393, USA) ,  Sadakane K. (Faculty of Life and Medical Sciences, Doshisha University, Kyotanabe, Kyoto 610-0321, Japan) ,  Yamada N. L. (Institute of Materials Structure Science, High Energy Accelerator Research Organization, Tokai 319-1106, Japan) ,  Endo H. (Institute of Materials Structure Science, High Energy Accelerator Research Organization, Tokai 319-1106, Japan) ,  Nagao M. (Center for Exploration of Energy and Matter, Department of Physics, Indiana University, Bloomington, Indiana 47408, USA) ,  Seto H. (Institute of Materials Structure Science, High Energy Accelerator Research Organization, Tokai 319-1106, Japan)
資料名： Journal of Chemical Physics  (Journal of Chemical Physics)
巻： 147  号： 3  ページ： 034905-034905-10  発行年： 2017年07月21日 
JST資料番号： C0275A  ISSN： 0021-9606  CODEN： JCPSA6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 小角中性子散乱(SANS)法と中性子スピンエコー(NSE)分光を結合して,剪断誘起多層ラメラベシクル(MLV)形成を調べた。非イオン性界面活性剤であるペンタエチレングリコールドデシルエーテル(C₁₂E₅)の10%質量分率水溶液を,弱ラメラ間相互作用のモデル系として選択した。アニオン性界面活性剤であるドデシル硫酸ナトリウムまたは拮抗塩であるテトラフェニルホウ酸ルビジウムのいずれかを添加して,これらの相互作用を制御した。二層中の電荷密度を増加すると,ラメラ構造の配向増大が誘起された。膜曲げ弾性率の電荷密度依存性をNSEで決定し,電荷による増加傾向が示された。この挙動は古典的理論モデルで良く説明できた。SANSデータから計算したCailleパラメータを考慮して,層圧縮弾性率<span style=text-decoration:overline>B^-</span>を算定し,支配的なラメラ間相互作用の性質を決定した。電荷の少量が膜中に含まれる場合,剪断流は,剪断速度10s^-1の周辺でMLV形成を誘起した。流動誘起波動は,ラメラ間相互作用が十分強い場合,隣接層間と同期した。これらの条件下で,MLV形成は,ラメラ間距離を顕著には変化せずに生じた。他方,弱ラメラ間相互作用の場合には,流動誘起波動は同期せず,大きな立体反発が剪断断速度によるラメラ間距離の増大を生じた。この場合,MLV形成が波動の振幅が増大することで生じ,立体相互作用が隣接膜間の同期波動を生じた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ラメラ ,  *ベシクル ,  剪断 ,  *剪断変形 ,  層状組織 ,  *分子間相互作用 ,  相互作用 ,  *小角中性子散乱 ,  *スピンエコー ,  非イオン界面活性剤 ,  水溶液 ,  陰イオン界面活性剤 ,  ルビジウム化合物 ,  電荷分布 ,  多層膜 ,  分子配向 ,  弾性係数 ,  剪断流 ,  剪断速度 ,  流体波 ,  波動 ,  層間隔 ,  状態図 ,  構造パラメータ ,  散乱関数 ,  *界面活性剤 ,  脂肪族アルコール ,  無機酸エステル
準シソーラス用語： 層間相互作用 ,  *中性子スピンエコー ,  電荷密度 ,  二層構造 ,  曲げ弾性率 ,  圧縮弾性率 ,  液体波動

分類 (4件)： 不均質流  (BC02060J) ,  コロイドのレオロジー  (BL01012I) ,  分子間相互作用  (BH07020P) ,  その他の洗浄剤  (YG02040W)

物質索引 (3件)： ペンタエチレングリコールドデシルエーテル ,  ドデシル硫酸ナトリウム ,  テトラフェニルホウ酸

タイトルに関連する用語 (5件)： 剪断 ,  誘起 ,  多層 ,  ラメラ ,  相互作用