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J-GLOBAL ID：201702241004735217   整理番号：17A0462180

大きな曲面形状上のポリマのナノ構造に対する,コンフォーマルな反転インプリントリソグラフィ

Conformal reversal imprint lithography for polymer nanostructuring over large curved geometries

著者 (6件)： Dickson Mary Nora (Department of Chemical Engineering and Materials Science, University of California, Irvine, California, 92697) ,  Tsao Justin (Department of Mechanical and Aerospace Engineering, University of California, Irvine, California, 92697) ,  Liang Elena I. (Department of Biomedical Engineering, University of California, Irvine, California, 92697) ,  Navarro Noel I. (Department of Biomedical Engineering, University of California, Irvine, California, 92697) ,  Patel Yash R. (Department of Neurobiology and Behavior, University of California, Irvine, California, 92697) ,  Yee Albert F. (Department of Chemical Engineering and Materials Science, University of California, Irvine, California, 92697)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 35  号： 2  ページ： 021602-021602-4  発行年： 2017年03月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 2166-2746  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリマ表面のナノインプリント法は,表面トポグラフィだけを変化させて表面を機能化する方法である。高温エンボス式ナノインプリントリソグラフィ法(平坦な表面と熱可塑性プラスチックとに最も適している)の代替えとして,反転インプリントリソグラフィ法を改良して,曲面のポリマ表面上へのナノ構造被覆を移転する方法を示す。曲表面は,何らの化学変化なしに,単にナノ構造表面被覆を付加するだけで,反射防止性や疎水性が得られる。将来的には,この方法は多種の材料とより複雑な曲面に応用が可能になると予想される。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *パターン転写 ,  押付成形 ,  *高分子 ,  表面 ,  ナノ構造 ,  *トポグラフィー【形態】 ,  *曲面 ,  *リソグラフィー ,  *被覆 ,  反射防止膜 ,  疎水性
準シソーラス用語： *ナノインプリント ,  *表面トポグラフィー ,  反転インプリントリソグラフィ ,  インプリントリソグラフィー ,  反射防止被覆

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 面形状 ,  ポリマ ,  ナノ構造 ,  反転 ,  インプリントリソグラフィ