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J-GLOBAL ID：201702242168360008   整理番号：17A1811197

反応性イオンエッチングでミクロパターン付したFe₃O₄磁気電極を伴ったマルチフェロイック多層Fe₃O₄/(Bi_3.25Nd_0.85Eu_0.10)Ti₃O₁₂複合材薄膜の製作と漏れ電流及び強誘電特性

Fabrication and leakage current and ferroelectric characteristics of multiferroic Fe₃O₄/(Bi_3.25Nd_0.65Eu_0.10)Ti₃O₁₂ composite thin films with Fe₃O₄ magnetic electrodes micropatterned by reactive ion etching

著者 (9件)： KOBUNE Masafumi (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  NISHIMINE Takuya (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  MATSUNAGA Takuya (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  FUJITA Satoshi (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  KIKUCHI Takeyuki (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  FUJISAWA Hironori (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  SHIMIZU Masaru (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  KANDA Kensuke (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  MAENAKA Kazusuke (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 56  号： 10S  ページ： 10PF02.1-10PF02.6  発行年： 2017年10月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *強誘電性 ,  *漏れ電流 ,  *チタン酸塩 ,  *ビスマス化合物 ,  *ネオジム化合物 ,  *ユウロピウム化合物 ,  *酸化鉄 ,  パターン形成 ,  *強誘電体 ,  *磁性体 ,  *多層膜 ,  MOCVD ,  *飽和磁化 ,  *残留磁化 ,  *保磁力 ,  *ヒステリシス ,  *残留分極 ,  *四酸化三鉄 ,  *磁性強誘電体 ,  *分極ヒステリシス
準シソーラス用語： *四三酸化鉄 ,  *マルチフェロイック ,  *誘電ヒステリシス

分類 (2件)： 酸化物結晶の磁性  (BM06050E) ,  強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B)

タイトルに関連する用語 (11件)： 反応性イオンエッチング ,  ミクロパターン ,  磁気 ,  マルチフェロイック ,  多層 ,  BI3 ,  複合材 ,  薄膜 ,  製作 ,  漏れ電流 ,  強誘電特性